[实用新型]一种原子层沉积设备用自动密封装置

说明书

本实用新型涉及一种原子层沉积设备用自动密封装置，包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。本实用新型的优点是：实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能，提高产品质量，无需频繁维护，降低成本，将可能存在的对人体的危害降到最低。

技术领域

本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种原子层沉积设备用自动密封装置。

背景技术

在原子层沉积镀膜设备中，真空室分别与大气以及镀膜室的隔离非常重要。影响着原子层沉积的速率及效果。

现有的技术对于真空室与镀膜室的隔离常采用密封圈压紧的结构，对于零件加工、安装精度要求较高；出现间隙时不容易调节；密封圈容易脱落导致漏膜；且密封圈需要定期更换。

如果真空室与大气未较好地隔离，会影响抽气速率从而影响镀膜效率及膜层质量；如果真空室与镀膜室未较好地隔离，镀膜过程中会有膜层从镀膜室进入真空室，污染真空室内的部品，包括加热器及镀膜室固定部件等，大大增加了后期维护的时间、缩短部品的使用寿命，同时也会影响镀膜的效率，增加化学源的使用量，增加客户的运营和维护成本。溢出的膜料如未能正确地清理和清洁，可能会对人体有一定的危害。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种原子层沉积设备用自动密封装置，利用装置本身的执行动作实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种原子层沉积设备用自动密封装置，用于原子层沉积设备的真空室和镀膜室的密封，其中所述镀膜室设置在所述真空室的内部，所述镀膜室和所述真空室上分别具有位置对应的开口，其特征在于：该自动密封装置包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。

所述位置调整机构包括轴承座、滑座以及弹性件，所述滑座设置在所述真空室底板上，所述滑座的外侧通过滑动轴承连接所述滑座，所述滑座的外侧连接所述镀膜室底板，所述弹性件设置在所述滑座与所述轴承座之间使两者可相对运动；所述镀膜室底板可通过滑座与所述轴承座之间的相对运动实现位置调整。

所述轴承座的内侧连接有滚动轴承，所述滚动轴承连接有基片架转盘，所述基片架转盘连接有旋转驱动装置，所述旋转驱动装置位于所述真空室底板的外侧；所述基片架转盘可进入所述镀膜室的内部并在所述旋转驱动装置的驱动下在所述镀膜室内旋转。

所述滚动轴承对应所述基片架转盘处设置有密封件。

所述滑座的外圈为球形，使所述镀膜室底板可在所述滑座的球面上实现万向旋转。

所述滑动轴承对应于镀膜室处设置有挡板。

所述真空室底板与所述位移驱动机构之间设置有弹性件。

所述真空室底板上设置有可受压变形的密封件。

所述位移驱动机构为推送机构，所述位置调整机构为水平调整机构。