[实用新型]一种极片的预锂设备

权利要求书

1.一种极片的预锂设备，其特征在于，包括机架，所述机架上设置有放卷装置、收卷装置和第一遮蔽机构，所述放卷装置和所述收卷装置之间设置有电镀池，所述放卷装置和所述收卷装置通过极片连接，所述第一遮蔽机构包括第一驱动装置、第一传动轮和第一输送带，所述第一输送带绕设在所述第一传动轮上，所述第一驱动装置固定在所述机架上，所述第一传动轮与所述第一驱动装置传动连接，所述第一输送带上沿走带方向依次间隔设置有多个第一遮蔽膜，所述极片沿走带方向交替设置有电镀区和留白区，所述第一遮蔽膜与所述留白区相对应，电镀时，所述第一输送带与所述极片同步穿过所述电镀池，所述第一遮蔽膜覆盖在所述极片的留白区，使得所述留白区不会被镀锂。

2.如权利要求1所述的预锂设备，其特征在于，所述第一输送带包括两个并列设置的传送带，两个所述传送带绕设在所述第一传动轮上，所述第一遮蔽膜的两侧端分别与两个所述传送带连接，相邻的两个所述第一遮蔽膜之间的间距不同，相邻的两个所述第一遮蔽膜之间的间距与极片电镀区的宽度相对应，所述第一遮蔽膜的宽度等于所述极片留白区的宽度。

3.如权利要求2所述的预锂设备，其特征在于，还包括第二遮蔽机构及控制器，所述第二遮蔽机构包括第二驱动装置、第二传动轮和第二输送带，所述第二输送带绕设在所述第二传动轮上，所述第二驱动装置固定在所述机架上，所述第二传动轮与所述第二驱动装置传动连接，所述第二输送带上沿走带方向依次间隔设置有多个第二遮蔽膜，电镀时，所述第一遮蔽膜覆盖在所述极片正面的留白区，所述第二遮蔽膜覆盖在所述极片反面的留白区，所述第一驱动装置和第二驱动装置均与所述控制器电性连接。

4.如权利要求3所述的预锂设备，其特征在于所述第二输送带包括两个并列设置的传送带，两个所述传送带绕设在所述第二传动轮上，所述第二遮蔽膜的两侧端分别与两个所述传送带连接，相邻的两个所述第二遮蔽膜之间的间距不同，相邻的两个所述第二遮蔽膜之间的间距与极片反面电镀区的宽度相对应，所述第二遮蔽膜的宽度等于所述极片反面留白区的宽度。

5.如权利要求4所述的预锂设备，其特征在于，还包括设置于电镀池液面下的液下辊和阳极，所述液下辊通过主辊轴承转动安装在轴承座上，所述极片绕设在所述液下辊的中部，所述液下辊轮外通过轴承分别套设安装有第一滚筒和第二滚筒，所述第一滚筒和所述第二滚筒均位于所述液下辊的边端，所述第一输送带绕设在所述第一滚筒上，所述第二输送带绕设在所述第二滚筒上。

6.如权利要求5所述的预锂设备，其特征在于，所述第一滚筒的数量为两个，两个所述第一滚筒分别位于所述液下辊的两边端，使得所述第一遮蔽膜覆盖在所述极片正面的留白区域；所述第二滚筒的数量为两个，两个所述第二滚筒分别位于所述液下辊的两边端，使得所述第二遮蔽膜覆盖在所述极片反面的留白区域。

7.如权利要求5所述的预锂设备，其特征在于，所述极片在所述电镀池内的走带路径呈“U”形。

8.如权利要求7所述的预锂设备，其特征在于所述阳极包括第一阳极和第二阳极，所述第一阳极位于所述极片反面一侧，所述第二阳极位于所述极片正面一侧。

9.如权利要求8所述的预锂设备，其特征在于，还包括色标传感器和用于检测所述电镀池内电镀区域电流密度的检测装置，所述第一遮蔽膜和所述第二遮蔽膜的来料端分别对应设置所述色标传感器，所述色标传感器和所述检测装置均与所述控制器电性连接。

10.如权利要求9所述的预锂设备，其特征在于，还包括浸润池、清洗池和干燥装置，所述浸润池位于所述放卷装置和所述电镀池之间，所述清洗池位于所述电镀池和所述干燥装置之间，所述干燥装置位于所述清洗池和所述收卷装置之间，使得所述极片依次穿过所述浸润池、所述电镀池、所述清洗池和所述干燥装置。