[实用新型]一种极片的预锂设备有效

专利信息
申请号: 202221560722.9 申请日: 2022-06-21
公开(公告)号: CN218123443U 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 焦军峰;蔡春亮;易兆丰;马超;黄晖杰 申请(专利权)人: 广东捷盟智能装备有限公司
主分类号: H01M4/04 分类号: H01M4/04;H01M10/058;H01M10/0525
代理公司: 广州微斗专利代理有限公司 44390 代理人: 陈文爽
地址: 511475 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 设备
【说明书】:

实用新型提供一种极片的预锂设备,包括机架,机架上设置有放卷装置、收卷装置和第一遮蔽机构,放卷装置和收卷装置之间设置有电镀池,放卷装置和收卷装置通过极片连接,第一遮蔽机构包括第一驱动装置、第一传动轮和第一输送带,第一输送带绕设在第一传动轮上,第一驱动装置固定在机架上,第一传动轮与第一驱动装置传动连接,第一输送带上沿走带方向依次间隔设置有多个第一遮蔽膜,极片沿走带方向交替设置有电镀区和留白区,第一遮蔽膜与留白区相对应,电镀时,第一输送带与极片同步穿过电镀池,第一遮蔽膜覆盖在极片的留白区,使得留白区不会被镀锂。

技术领域

本实用新型涉及电化学极片生产设备领域,特别涉及一种极片的预锂设备。

背景技术

锂离子电池在首次充放电循环中会形成固体电解质膜而消耗一部分锂离子,从而导致锂离子电池的首次库伦效率较低,并影响电池容量,为此,需要提供外界锂源来实现预锂化,通过预锂化技术对电极材料如极片进行预锂化处理,以弥补消耗的大量的锂离子,可以有效提高锂电池的可逆循环容量和循环寿命。

现有的主要的极片预锂化方法,包括负极喷涂锂粉法、锂箔覆合法、锂粉碾压法和惰性锂粉喷涂法等,但是这些方法都存在补锂均匀性不好控制的问题。电镀方法镀锂层相对均匀,但是,由于极片表面的锂不是连续涂布的,中间有留白区和单面区,单面区单面不进行补锂,留白区的正反两面均不进行补锂的。因此在整个电镀过程中,如何来防止留白区和单面区不被镀上锂就成了此设备的控制的关键点,而且,电镀方法镀锂层受电镀液中电流密度变化的影响。

实用新型内容

基于此,有必要提供一种极片的预锂设备。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种极片的预锂设备,包括机架,所述机架上设置有放卷装置、收卷装置和第一遮蔽机构,所述放卷装置和所述收卷装置之间设置有电镀池,所述放卷装置和所述收卷装置通过极片连接,所述第一遮蔽机构包括第一驱动装置、第一传动轮和第一输送带,所述第一输送带绕设在所述第一传动轮上,所述第一驱动装置固定在所述机架上,所述第一传动轮与所述第一驱动装置传动连接,所述第一输送带上沿走带方向依次间隔设置有多个第一遮蔽膜,所述极片沿走带方向交替设置有电镀区和留白区,所述第一遮蔽膜与所述留白区相对应,电镀时,所述第一输送带与所述极片同步穿过所述电镀池,所述第一遮蔽膜覆盖在所述极片的留白区,使得所述留白区不会被镀锂。

优选地,所述第一输送带包括两个并列设置的传送带,两个所述传送带绕设在所述第一传动轮上,所述第一遮蔽膜的两侧端分别与两个所述传送带连接,相邻的两个所述第一遮蔽膜之间的间距不同,相邻的两个所述第一遮蔽膜之间的间距与极片电镀区的宽度相对应,所述第一遮蔽膜的宽度等于所述极片留白区的宽度。

优选地,还包括第二遮蔽机构,所述第二遮蔽机构包括第二驱动装置、第二传动轮和第二输送带,所述第二输送带绕设在所述第二传动轮上,所述第二驱动装置固定在所述机架上,所述第二传动轮与所述第二驱动装置传动连接,所述第二输送带上沿走带方向依次间隔设置有多个第二遮蔽膜,电镀时,所述第一遮蔽膜覆盖在所述极片正面的留白区,所述第二遮蔽膜覆盖在所述极片反面的留白区。

优选地,所述第二输送带包括两个并列设置的传送带,两个所述传送带绕设在所述第二传动轮上,所述第二遮蔽膜的两侧端分别与两个所述传送带连接,相邻的两个所述第二遮蔽膜之间的间距不同,相邻的两个所述第二遮蔽膜之间的间距与极片反面电镀区的宽度相对应,所述第二遮蔽膜的宽度等于所述极片反面留白区的宽度。

优选地,还包括控制器及设置于电镀池液面下的液下辊和阳极,所述液下辊通过主辊轴承转动安装在轴承座上,所述极片绕设在所述液下辊的中部,所述液下辊轮外通过轴承分别套设安装有第一滚筒和第二滚筒,所述第一滚筒和所述第二滚筒均位于所述液下辊的边端,所述第一输送带绕设在所述第一滚筒上,所述第二输送带绕设在所述第二滚筒上,所述第一驱动装置和第二驱动装置均与所述控制器电性连接。

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