[实用新型]一种真空腔体的传动结构有效
申请号: | 202221583813.4 | 申请日: | 2022-06-23 |
公开(公告)号: | CN217869073U | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 戴佳;朱鹤囡;董雪迪;林佳继 | 申请(专利权)人: | 拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 空腔 传动 结构 | ||
1.一种真空腔体的传动结构,其特征在于:包括定位支撑机构、动力机构和定位机构,定位支撑机构包括齿条,齿条设置于载板装置,动力机构包括动力齿轮,齿条与动力齿轮啮合连接。
2.根据权利要求1所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述定位支撑机构还包括支架、支撑组件和支撑板,支架的长度方向与载板装置的移动方向平行,支架与真空腔体内部的顶部连接,支撑板与载板装置连接。
3.根据权利要求2所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述支撑组件设有若干,沿载板装置移动方向的若干支撑组件设置于支架。
4.根据权利要求1所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述动力机构设有若干,沿载板装置移动方向的若干动力机构设置于真空腔体。
5.根据权利要求2或3所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述支撑组件包括轮安装架、支撑轮和定位轮,支撑轮和定位轮设置于轮安装架,支撑轮位于支撑板下方,支撑轮与支撑板贴合,定位轮位于齿条下方,定位轮与齿条进行卡槽连接。
6.根据权利要求1或4所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述动力机构还包括电机组件、磁流体、联轴器、轴承座和动力转轴,轴承座与真空腔室连接,动力齿轮设置于动力转轴外表面,动力转轴通过联轴器与磁流体连接,磁流体与电机组件通过紧固机构连接。
7.根据权利要求6所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述联轴器、动力齿轮、轴承座和动力转轴位于真空腔体内部,电机组件和磁流体位于真空腔体外部,磁流体的安装面与真空腔体的外表面连接。
8.根据权利要求1所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述定位机构设置于真空腔室的底部,定位支撑机构与载板装置的上端连接,定位机构与载板装置的下端连接。
9.根据权利要求1或8所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述定位机构包括定位支架和定位组件,定位支架的长度方向与载板装置的移动方向平行,定位支架与真空腔体内的底部连接。
10.根据权利要求9所述的一种真空腔体的传动结构,其特征在于:所述定位组件设有若干,若干定位组件沿载板装置的移动方向设置于定位支架,定位组件包括定位固定板和定位杆,定位杆设有滚轮,滚轮与载板装置的端面接触,载板装置的下端在其移动方向的两端尺寸逐渐减小。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司,未经拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202221583813.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型甲状腺防出血冷敷贴
- 下一篇:一种花卉种植培养装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的