[实用新型]一种MOCVD反应室粉尘清理装置

权利要求书

1.一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于，包括：

清理分离箱(1)，所述清理分离箱(1)内设有支撑分隔板(101)；

吸尘分离机构(2)，设于所述清理分离箱(1)上，所述吸尘分离机构(2)包括气泵(201)，所述气泵(201)上连接有吸气管(202)，所述吸气管(202)的另一端插设于所述清理分离箱(1)内，所述支撑分隔板(101)的下方设有电磁铁(203)，所述电磁铁(203)与支撑分隔板(101)之间连接有缓冲连接组件；

防堵塞机构(3)，安装于所述清理分离箱(1)上，所述防堵塞机构(3)包括电动机(301)，所述电动机(301)上连接有旋转传动杆(302)，所述旋转传动杆(302)上连接有连接绳(303)，所述连接绳(303)的另一端连接有敲打球(304)，所述旋转传动杆(302)上安装有敲打凸块(305)。

2.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于，所述清理分离箱(1)上连接有送气管(102)，所述支撑分隔板(101)上安装有换热排水管(103)和换热进水管(104)，所述支撑分隔板(101)上开凿有冷却换热槽，所述换热排水管(103)和换热进水管(104)的一端均与冷却缓冲槽相连通。

3.根据权利要求2所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于，所述支撑分隔板(101)上开凿有收集腔(105)，所述收集腔(105)的侧壁上开凿有多个均匀分布的连通孔(106)，所述支撑分隔板(101)上开凿有多个通气道，多个所述通气道与多个冷却缓冲槽相互错开设置。

4.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于，所述清理分离箱(1)内设有一对辅助出料斗(107)，所述辅助出料斗(107)上开凿有下漏槽，所述下漏槽内设有控制盘(108)，所述控制盘(108)上插设有旋转控制杆(109)，所述旋转控制杆(109)的一端贯穿清理分离箱(1)设置，所述旋转控制杆(109)设于所述清理分离箱(1)外的一端连接有握把(110)。

5.根据权利要求1所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于，所述清理分离箱(1)内安装有一对支撑块(204)，一对所述支撑块(204)之间连接有过滤件(205)和除尘网(206)。

6.根据权利要求3所述的一种MOCVD反应室粉尘清理装置，其特征在于，所述缓冲连接组件包括收缩套(207)，所述收缩套(207)的一端固定于所述连通孔(106)上，所述收缩套(207)内设有限位块(208)，所述限位块(208)上连接有伸缩连接杆(209)，所述伸缩连接杆(209)的一端与电磁铁(203)固定连接，所述限位块(208)与收缩套(207)之间连接有张紧弹簧(210)。