[实用新型]晶粒分类机产品表面清洁系统

权利要求书

1.一种晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，包括：

晶圆承载盘，其具有一晶圆承载槽，所述晶圆承载槽用于放置切割后的晶圆；

挑起结构，设置于所述晶圆承载槽内，用于挑起位于晶圆承载槽内、经切割后的晶圆内的目标晶粒；

晶粒吸取装置，包括吸嘴，所述吸嘴正对所述晶圆承载盘上的挑起结构设置，以对经所述挑起结构挑起后的目标晶粒进行吸取；以及

清洁装置，包括吹气管，所述吹气管上形成有与所述挑起结构对应设置的吹气口，以使经所述吹气口吹出的气流能吹向经所述挑起结构挑起的所述目标晶粒的表面。

2.如权利要求1所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述系统还包括架体，所述晶圆承载盘设置于所述架体上，且可相对所述架体在垂直于所述吸嘴的吸取方向上移动；

所述挑起结构以及清洁装置固定设置于所述架体上。

3.如权利要求2所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述晶圆承载盘的数量有两个，对称设置于所述架体上；

所述晶粒吸取装置可转动设置于所述架体上，且位于两个所述晶圆承载盘之间，所述吸嘴可随所述晶粒吸取装置的转动而于两个所述晶圆承载盘之间来回移动，以将其中一个所述晶圆承载槽内晶圆上的目标晶粒吸取至另一晶圆承载槽内的晶圆上。

4.如权利要求3所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述挑起结构的数量有两个，对称设置于所述架体上，一个所述挑起结构对应一个所述晶圆承载盘设置。

5.如权利要求3所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述晶粒吸取装置包括相背设置的两个吸嘴，每个吸嘴对应一个所述晶圆承载盘设置。

6.如权利要求1所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述挑起结构包括顶针，所述顶针可沿所述晶圆承载盘的轴向移动，以顶起目标晶粒。

7.如权利要求1所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述清洁装置还包括过滤结构，所述过滤结构用于过滤吹向目标晶粒的空气。

8.如权利要求1所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述清洁装置还包括过控制阀，所述控制阀设置于所述吹气管上，可被控制地开启过关闭以控制所述吹气管内的气流供应。

9.如权利要求1所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述清洁装置设置于所述晶粒吸取装置的上方或下方，且自所述吹气管上的吹气口吹出的气流与被挑起的目标晶粒表面之间形成有一定范围的夹角。

10.如权利要求9所述的晶粒分类机产品表面清洁系统，其特征在于，所述夹角的范围为30°～60°。