[实用新型]光罩有效
申请号: | 202221695712.6 | 申请日: | 2022-06-30 |
公开(公告)号: | CN217879973U | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 陈都 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 彭宇 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光罩 | ||
本实用新型实施例公开了一种光罩;该光罩包括光罩主体、及位于该光罩主体的一侧的准直遮光层,该光罩主体包括至少一第一开口,该准直遮光层包括至少一准直遮光单元,该准直遮光单元包括一准直孔,其中,一该准直遮光单元围绕一该第一开口设置,在垂直于该光罩主体的方向上,一该第一开口与一该准直孔重合设置;本实用新型通过在光罩主体的第一开口周围设置准直遮光单元,准直遮光单元的准直孔与第一开口对应重合,利用准直遮光单元对倾斜光线的遮挡,提高光线的准直性,提高了曝光精度,增强了图案化的解析力,提高了制作精度。
技术领域
本实用新型涉及显示领域,具体涉及一种光罩。
背景技术
近些年,显示领域中的曝光显影技术要求的精度越来越高,曝光制程中,需要有Mask(光罩)进行遮光,光罩上设置有开口,在光罩开口边缘附近的光强变化快,当曝光机的光线准直性较差时,对于开口边缘的光线会有斜向侵入,导致有多余曝光区域,进而导致图案化的解析力降低,降低了制作精度。
因此,亟需一种光罩以解决上述技术问题。
实用新型内容
本实用新型提供一种光罩,可以缓解目前光罩的开口边缘的光线异常侵入的技术问题。
本实用新型提供一种光罩,包括:
光罩主体,包括至少一第一开口;
准直遮光层,位于所述光罩主体的一侧,所述准直遮光层包括至少一准直遮光单元,所述准直遮光单元包括一准直孔;
其中,一所述准直遮光单元围绕一所述第一开口设置,在垂直于所述光罩主体的方向上,一所述第一开口与一所述准直孔重合设置。
进一步优选的,第一截面垂直于所述光罩,在任一所述第一截面上,所述第一开口的宽度为L,所述第一开口的最大宽度为Lmax,所述准直遮光单元的厚度为H;其中,至少一所述准直孔满足以下关系:H≥Lmaxtan2°。
进一步优选的,所述第一开口为矩形,所述矩形包括两个长边和两个短边,所述短边的长度为M,所述长边的长度为N,所述准直遮光单元的厚度为H;其中,N≥10M,所述准直孔满足以下关系:H≥Mtan2°。
进一步优选的,所述光罩主体包括多个所述第一开口,所述准直遮光层包括多个所述准直遮光单元;其中,相邻两个所述准直遮光单元间隔设置。
进一步优选的,所述光罩主体包括多个所述第一开口,所述准直遮光层包括多个所述准直遮光单元;其中,相邻两个所述准直遮光单元接触设置。
进一步优选的,所述准直遮光层还包括至少一透明单元,所述透明单元位于所述准直孔内。
进一步优选的,所述透明单元与所述准直遮光单元一体设置。
进一步优选的,所述光罩还包括位于所述准直遮光层与所述光罩主体之间的金属遮光层,所述金属遮光层包括至少一第三开口,一所述第一开口与一所述第三开口重合设置。
进一步优选的,所述准直遮光单元的透光率小于所述金属遮光层的透光率。
进一步优选的,所述准直遮光单元的厚度大于所述金属遮光层的厚度。
本实用新型有益效果:本实用新型通过在光罩主体的第一开口周围设置准直遮光单元,准直遮光单元的准直孔与第一开口对应重合,利用准直遮光单元对倾斜光线的遮挡,提高光线的准直性,提高了曝光精度,增强了图案化的解析力,提高了制作精度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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