[实用新型]一种散热装置和镀膜设备有效
申请号: | 202221761938.1 | 申请日: | 2022-07-08 |
公开(公告)号: | CN218175100U | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 龚洋;张开旺;刘勇;李佳;卢俊雄;徐希翔 | 申请(专利权)人: | 隆基绿能科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人: | 张子宽 |
地址: | 710100 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 散热 装置 镀膜 设备 | ||
本实用新型公开了一种散热装置和镀膜设备,涉及光伏镀膜技术领域,以解决现有技术中的散热方式造成了气体的大量消耗,浪费资源的问题。所述散热装置包括:基板、吸热层和冷却组件。吸热层设置于基板的至少部分表面。冷却组件设置于基板的表面、或设置于吸热层的表面,或设置于基板的表面和吸热层的表面。本实用新型还提供了一种镀膜设备。该镀膜设备包括工艺腔室和上述技术方案所述的散热装置,散热装置设置于工艺腔室内,散热装置包括的冷却组件与工艺腔室的外部连通。
技术领域
本实用新型涉及光伏镀膜技术领域,尤其涉及一种散热装置和镀膜设备。
背景技术
硅异质结太阳能电池(Heterojunction Technology,缩写为HJT)是一种以单晶硅片为衬底,正反两面均依次沉积非晶硅/微晶硅薄膜的高效太阳能电池,其主要适用于低温工艺。为了便于描述后续将硅异质结太阳能电池简称为电池。
目前,本领域技术人员开发了一种立式热丝高温催化分解设备。该设备处理硅片的工作原理是,利用热丝高温催化反应使微晶化工艺气体分解产生物质,之后上述物质沉积在硅片表面形成需要的薄膜层。为了使微晶化工艺气体分解,热丝表面温度需要达到1800℃以上。此时,立式热丝高温催化分解设备的工艺腔室内,会因红外热辐射产生大量热量,导致工艺腔室内温度升高,致使在电池工艺中原本起钝化作用的氢原子由于高温而大量脱附。基于此,降低了非晶硅的钝化效果,从而降低了电池的开路电压和填充因子,使电池效率严重降低,影响电池的工作性能,因此需要使工艺腔室内温度降低到理想镀膜温度。
现有技术中,为了使工艺腔室内温度降低到理想镀膜温度,通常采用持续性通入大量气体(例如氢气)的方式带走热量。但是,上述气体一经使用就不能在循环利用。基于此,造成了气体的大量消耗,浪费资源。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种散热装置和镀膜设备,用于在降低工艺腔室内温度和确保电池工作性能的同时,减少气体的使用量,节约资源。
为了实现上述目的,第一方面,本实用新型提供了一种散热装置。该散热装置包括:基板、吸热层和冷却组件。吸热层设置于基板的至少部分表面。冷却组件设置于基板的表面、或设置于吸热层的表面,或设置于基板的表面和吸热层的表面。
与现有技术相比,本实用新型提供的散热装置中,由于吸热层可以用于吸收热量,此时,吸热层可以将分散在工艺腔室内的热量集中起来,以便于后续处理。接着,吸热层吸收的热量会被传导到冷却组件上,然后由冷却组件将热量传导出去,以达到降低工艺腔室内温度的目的,避免因高温对电池造成影响,即可以确保电池的工作性能。应理解,上述冷却组件中用于传导热量的物质可以经过降温处理后重复循环利用。综上所述,相比于现有技术中仅采用持续性通入大量气体带走热量的方式,本实用新型利用热传导的方式降温减少了气体的使用量,节约了资源。
在一种实现方式中,基板的表面包括相对的第一表面和第二表面,吸热层设置于第一表面,冷却组件设置于第二表面。
在一种实现方式中,基板的表面包括相对的第一表面和第二表面,第一表面的面积小于吸热层表面的面积时,吸热层设置于第一表面,冷却组件设置于第二表面和吸热层的表面。
采用上述两种技术方案中的任意一种,均可以避免冷却组件遮挡吸热层,确保吸热层与空气的接触面积最大化。此时,有利于吸热层尽可能多的吸收工艺腔室内的热量,以进一步缩短处理时间,加快工艺腔室内温度降低的速度,进而进一步确保电池的工作性能。
在一种实现方式中,上述吸热层的热吸收率大于吸热层的热反射率。
采用上述技术方案的情况下,根据现有技术可知,热吸收率是指投射到物体上的热射线,其中被吸收的能量与投射的总能量之比。热反射率是指投射到物体的热射线中被物体表面反射的能量与投射到物体的总能量之比。此时可知,上述吸热层可以有效的吸收工艺腔室内的热量,接着将吸收的热量传导给冷却组件,以降低工艺腔室内的温度。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的