[实用新型]一种改善平面溅射防开裂靶有效
申请号: | 202221814099.5 | 申请日: | 2022-07-15 |
公开(公告)号: | CN217809636U | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 侯俊男;牛中奇 | 申请(专利权)人: | 东莞市兆广电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 东莞市凯粤智华专利商标代理事务所(普通合伙) 44698 | 代理人: | 牛瑞婷 |
地址: | 523000 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改善 平面 溅射 开裂 | ||
本实用新型公开了一种改善平面溅射防开裂靶,包括背板,所述背板的表面通过粘结材料粘结靶材,所述背板的表面设置有导热合金条,所述背板的长度为90‑130mm,宽度为55‑70mm,每个靶片拼接的间隙为0.3mm,所述背板的表面且没有磁场的位置开设有安装槽,所述导热合金条嵌合于安装槽的内腔,所述导热合金条与靶材的间隙在0.2‑1mm之间。本实用新型通过背板、靶材和导热合金条的配合使用,通过导热合金条用来吸走多余的电离子,减少产品的起弧;使靶材在使用过程中溅射面的温度下降与散热性好靶面不容易开裂,从而提升产品镀膜率,给镀膜工作带来了极大的便利,每个靶片拼接的间隙为0.3mm,能够在工作时候为靶片的热膨胀提供空间,不会发生靶片之间挤压的现象。
技术领域
本实用新型涉及真空溅射镀膜机技术领域,具体为一种改善平面溅射防开裂靶。
背景技术
目前市面上现有的平面硅靶/平面氧化铌靶和平面氧化铟锡靶(ITO)是由多个靶材片排列拼接形靶面,各个靶材片均与靶背板连接,形成平面靶;因在溅射使用过程中靶材表面温度升高,由于靶材溅射面热胀冷缩等因素,造成内应力开裂;造成镀膜良率降低,从而给镀膜工作带来了极大的不便。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种改善平面溅射防开裂靶,具备成膜效果好的优点,解决了目前市面上现有溅射靶在使用的时候会因为热胀冷缩等因素造成内应力开裂;造成镀膜良率降低,从而给镀膜工作带来了极大不便的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种改善平面溅射防开裂靶,包括背板,所述背板的表面通过粘结材料粘结靶材,所述背板的表面设置有导热合金条。
优选的,所述靶材的长度为90-130mm,宽度为55-70mm,每个靶片拼接的间隙为0.3mm。
优选的,所述背板的表面且没有磁场的位置开设有安装槽,所述导热合金条嵌合于安装槽的内腔。
优选的,所述导热合金条与靶材的间隙在0.2-1mm之间。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本实用新型通过背板、靶材和导热合金条的配合使用,通过导热合金条用来吸走多余的电离子,减少产品的起弧;使靶材在使用过程中溅射面的温度下降与散热性好靶面不容易开裂,从而提升产品镀膜率,给镀膜工作带来了极大的便利。
2、本实用新型通过设计每个靶片拼接的间隙为0.3mm,能够在工作时候为靶片的热膨胀提供空间,不会发生靶片之间挤压的现象,通过将导热合金条与靶材的间隙设计在0.2-1mm之间,能够在靶材受热膨胀后与导热合金条接触,保证了热量的传导的效率。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的示意图;
图2为本实用新型实施例二的示意图;
图3为本实用新型实施例三的示意图;
图4为本实用新型实施例四的示意图;
图5为本实用新型实施例五的示意图;
图6为本实用新型实施例六的示意图。
图中:1、背板;2、靶材;3、导热合金条。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型的部件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件,其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。
实施例一
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