[实用新型]半导体材料的化学机械减薄抛光装置有效
申请号: | 202221913102.9 | 申请日: | 2022-07-21 |
公开(公告)号: | CN218312810U | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 许耀华 | 申请(专利权)人: | 北京中科百测检测技术有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B37/20 |
代理公司: | 天津英扬昊睿专利代理事务所(普通合伙) 12227 | 代理人: | 吴扬 |
地址: | 100000 北京市顺*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体材料 化学 机械 抛光 装置 | ||
本实用新型涉及抛光装置的技术领域,特别是涉及半导体材料的化学机械减薄抛光装置,其便于固定抛光垫,提高工作效率,增强实用性;包括抛光机本体和固定机构,固定机构安装在抛光机本体上;固定机构包括两组支板、两组顶板、两组压杆、两组限位环和两组弹簧,抛光机本体包括抛光机构、转动机构和底座,抛光机构和转动机构均安装在底座顶部,两组支板分别固定安装在转动机构左端和右端,两组顶板分别固定安装在两组支板内端,两组顶板顶部分别设置有第一通孔,两组压杆分别与两组第一通孔滑动连接,两组限位环分别固定安装在两组压杆底部,两组限位环顶部与两组支板底部分别通过两组弹簧连接。
技术领域
本实用新型涉及抛光装置的技术领域,特别是涉及半导体材料的化学机械减薄抛光装置。
背景技术
众所周知,半导体材料是一类具有半导体性能,可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料,晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆,在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品,抛光是指利用机械,化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮,平整表面的加工方法,半导体材料的抛光是利用抛光机对半导体材料表面进行修饰加工,传统的抛光机,由抛光盘、抛光垫和压力盘组成;
现有的半导体材料抛光机在使用中发现,抛光机在对半导体材料进行打磨抛光时,需要将抛光垫放置在抛光机转盘上,由于抛光垫在转动时很容易发生移动,从而影响打磨效果,降低了工作效率,从而导致实用性较差。
实用新型内容
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种便于固定抛光垫,提高工作效率,增强实用性的半导体材料的化学机械减薄抛光装置。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,包括抛光机本体和固定机构,固定机构安装在抛光机本体上;
固定机构包括两组支板、两组顶板、两组压杆、两组限位环和两组弹簧,抛光机本体包括抛光机构、转动机构和底座,抛光机构和转动机构均安装在底座顶部,两组支板分别固定安装在转动机构左端和右端,两组顶板分别固定安装在两组支板内端,两组顶板顶部分别设置有第一通孔,两组压杆分别与两组第一通孔滑动连接,两组限位环分别固定安装在两组压杆底部,两组限位环顶部与两组支板底部分别通过两组弹簧连接。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,还包括两组拉环,两组拉环分别固定安装在两组压杆顶部。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,两组拉环上均包裹设置有防护圈。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,还包括两组压板,两组压板分别固定安装在两组压杆底部。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,两组压板底部均固定设置有摩擦垫。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,还包括两组限位杆,两组限位杆分别固定安装在两组压板顶部,两组顶板顶部分别贯穿设置有限位孔,两组限位杆分别与两组限位块滑动连接。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,两组支板内端分别设置有弧形结构。
本实用新型的半导体材料的化学机械减薄抛光装置,底座底部固定设置有橡胶垫。
与现有技术相比本实用新型的有益效果为:向上拉起两组压杆,此时两组弹簧收缩,将抛光垫放在转动机构顶部,松开两组压杆,两组压杆分别在两组弹簧的弹力作用下将抛光垫顶紧夹持住,从而方便后续打磨抛光,该过程实现了便于固定抛光垫的过程,提高了工作效率,从而增强了实用性。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的支板和顶板连接的前视结构示意图;
图3是本实用新型的图1中A的放大结构示意图;
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