[实用新型]单面抛光设备

说明书

本实用新型公开了一种单面抛光设备，包括：机体；旋转台，旋转台具有清洗池，清洗池内设有用于带动陶瓷块转动的旋转轴，清洗池的一侧设有喷液元件和刷洗元件；加热模块，加热模块位于清洗池的背离喷液元件和刷洗元件的一侧；机械手臂，机械手臂的一端可转动地设置于机体，机械手臂的另一端设有适于夹持陶瓷块的夹爪，机械手臂用于在旋转台和加热模块之间移载陶瓷块；挡液板，挡液板设于清洗池和加热模块之间，挡液板用于防止清洗池内的液体溅入加热模块内。根据本实用新型的单面抛光设备，通过设置挡液板，可防止清洗池内的液体溅入加热模块，有利于保证加热模块工作的可靠性，从而提高对晶圆的抛光质量。

技术领域

本实用新型涉及抛光领域，尤其是涉及一种单面抛光设备。

背景技术

单面抛光设备用于晶圆制程中的抛光工序。相关技术中，机械手臂抓取陶瓷块移动到旋转台的清洗池内以进行清洗，同时为保证工作效率，加热模块还会对另一个已涂蜡层的陶瓷块进行加热，然而由于加热模块与清洗池的距离比较近，清洗池内的液体容易溅向加热模块，污染加热模块上的陶瓷块的蜡层，影响后续陶瓷块与晶圆之间粘贴的可靠性，降低对晶圆的抛光质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型在于提出一种单面抛光设备，通过设置挡液板，可防止清洗池内的液体溅入加热模块，有利于保证加热模块工作的可靠性，从而提高对晶圆的抛光质量。

根据本实用新型实施例的单面抛光设备，包括：机体；旋转台，所述旋转台设于所述机体上，所述旋转台具有清洗池，所述清洗池内设有用于带动陶瓷块转动的旋转轴，所述清洗池的一侧设有喷液元件和刷洗元件；加热模块，所述加热模块设于所述机体，所述加热模块位于所述清洗池的背离所述喷液元件和所述刷洗元件的一侧；机械手臂，所述机械手臂的一端可转动地设置于所述机体，所述机械手臂的另一端设有适于夹持所述陶瓷块的夹爪，所述机械手臂用于在所述旋转台和所述加热模块之间移载所述陶瓷块；挡液板，所述挡液板设于所述清洗池和所述加热模块之间，所述挡液板用于防止所述清洗池内的液体溅入所述加热模块内。

根据本实用新型实施例的单面抛光设备，在喷液元件向清洗池内的陶瓷块进行冲洗以及刷洗元件对陶瓷块的刷洗的过程中，挡液板可以防止清洗池内的液体溅入加热模块，从而保证加热模块上对涂有蜡层的陶瓷块的可靠加热，保证后续陶瓷块与晶圆之间粘贴的可靠性，提高对晶圆的抛光质量。

在本实用新型的一些实施例中，所述挡液板包括板体和翻边部，所述板体沿所述清洗池的周向延伸成弧形，所述翻边部的一端与所述板体的底部相连，所述翻边部的另一端向外延伸，螺纹紧固件穿过所述翻边部与所述旋转台相连。

在本实用新型的一些实施例中，所述机械手臂还设有移动吸盘，所述板体设有适于避让所述移动吸盘的避让口。

在本实用新型的一些实施例中，所述板体形成为弧形板，所述板体的形状与所述旋转台的外轮廓相适配，所述翻边部设有连接孔，所述连接孔在所述旋转台的周向上延伸成条状，螺纹紧固件穿过所述连接孔与所述机体相连。

在本实用新型的一些实施例中，所述挡液板的高度为160mm-200mm。

在本实用新型的一些实施例中，所述挡液板为透明件。

在本实用新型的一些实施例中，所述翻边部和所述板体为一体件。

在本实用新型的一些实施例中，所述单面抛光设备还包括：清洗盘，所述清洗盘设于所述机体且位于所述夹爪的转动轨迹上，所述清洗盘限定出容纳腔，所述容纳腔的底部设有设有喷淋管，所述喷淋管用于向上喷淋纯水；接水盘，所述接水盘形成为开环形，所述接水盘卡接在所述清洗盘的底部，所述接水盘的顶部具有接水槽。

在本实用新型的一些实施例中，所述接水盘的底部设有与接水槽连通的排水孔，所述排水孔通过排水管与废水池连通。