[实用新型]一种用于气体分配盘的C型件有效
申请号: | 202222031695.2 | 申请日: | 2022-08-03 |
公开(公告)号: | CN217922305U | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;昝小磊;王学泽;汪涛;陈春磊 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰芯创科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 牛海燕 |
地址: | 315499 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 气体 分配 | ||
1.一种用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述C型件包括C型主体以及设置于所述C型主体的上下两表面之间,且从所述C型主体的内壁面及左右端面露出的C型空腔;所述C型空腔使所述C型主体的内部分别形成腔体内上表面,腔体内下表面及腔体内壁面;
所述C型件还包括设置于所述C型主体的上表面的中部,且延伸至所述C型主体的左右端面的C型壁,以及分别位于所述C型壁的壁内一侧及壁外一侧的第一贯通孔及第二贯通孔。
2.根据权利要求1所述的用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述第一贯通孔开设于所述C型主体的上表面,并延伸至所述腔体内上表面。
3.根据权利要求1所述的用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述第二贯通孔开设于所述C型主体的上表面,并延伸至所述腔体内下表面。
4.根据权利要求1所述的用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述腔体内壁面设置有与所述第二贯通孔对应的弧形槽,所述弧形槽对应的圆与所述第二贯通孔的直径相等且圆心的正投影重叠。
5.根据权利要求1所述的用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述腔体下表面设置有与所述第二贯通孔对应的圆锥形槽,所述圆锥形槽的开口与所述第二贯通孔的直径相等且圆心的正投影重叠。
6.根据权利要求1所述的用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述C型壁上设置有至少一个缺口,所述缺口朝外延伸至所述C型主体的外壁。
7.根据权利要求6所述的用于气体分配盘的C型件,其特征在于,所述缺口处的所述C型主体的上表面不设置所述第二贯通孔。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的