[实用新型]一种基于砷化镓工艺的偏置电路及射频放大器有效

专利信息
申请号: 202222242310.7 申请日: 2022-08-25
公开(公告)号: CN218976654U 公开(公告)日: 2023-05-05
发明(设计)人: 朱志锐;潘茂林 申请(专利权)人: 南京元络芯科技有限公司
主分类号: H03F1/02 分类号: H03F1/02;H03F3/189
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 210031 江苏省南京市江北*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 砷化镓 工艺 偏置 电路 射频放大器
【权利要求书】:

1.一种基于砷化镓工艺的偏置电路,其特征在于,包括晶体管M0、晶体管M2和晶体管M3;

所述晶体管M0的D端依次电路连接电阻R0和电源电压VDD;

所述晶体管M0的G端依次电路连接电阻R2、电阻R3和晶体管M2的D端;所述晶体管M2的S端与工作电路连接;所述晶体管M2的G端依次电路连接电阻R4和控制信号Vctrl的输入端;

所述电阻R2和电阻R3之间设有分支电路;所述分支电路上设有电阻R1;所述分支电路连接至所述晶体管M0的D端;

所述晶体管M0的S端与所述晶体管M3的D端电路连接;所述晶体管M3的S端接地;所述晶体管M3的G端依次电路连接电阻R5和控制信号Vctrl的输入端。

2.根据权利要求1所述的一种基于砷化镓工艺的偏置电路,其特征在于,电阻R1、电阻R2和电阻R3为采用精度为1%或精度更高的精密电阻。

3.根据权利要求1所述的一种基于砷化镓工艺的偏置电路,其特征在于,电阻R0、电阻R4和电阻R5为调节电阻。

4.根据权利要求1所述的一种基于砷化镓工艺的偏置电路,其特征在于,晶体管M0、晶体管M2和晶体管M3采用砷化镓材料的异质结双极性晶体管或/和伪形态高电子迁移率晶体管。

5.一种射频放大器;其特征在于,包括至少一个放大晶体管M1的工作电路;所述工作电路与权利要求1至权利要求4任意一项所述偏置电路电性连接。

6.根据权利要求5所述的一种射频放大器,其特征在于,所述放大晶体管M1与晶体管M0种类相同,所述晶体管M0与工作电路中的放大晶体管M1构成电流镜,晶体管 M0的尺寸为放大晶体管M1的1/N。

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