[实用新型]一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件

权利要求书

1.一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，配合圆柱形真空室使用，包括支撑结构，所述支撑结构的外侧设有柔性薄膜，所述支撑结构位于真空室内部且所述柔性薄膜固定在所述真空室内壁及所述支撑结构之间。

2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述柔性薄膜沿竖直方向覆盖整个真空室内壁。

3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述柔性薄膜为能够承受镀膜温度的薄膜材料。

4.根据权利要求3所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述柔性薄膜为铝箔。

5.根据权利要求4所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述支撑结构为框架式镂空结构。

6.根据权利要求5所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述支撑结构包括支撑环，所述支撑环边缘上设有三条与支撑环轴线平行的支撑杆，相对设置的两个支撑杆的下端通过连接杆固定连接。

7.根据权利要求6所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述支撑环的直径与所述真空室内壁的直径相同。

8.根据权利要求7所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述支撑结构采用铁丝制成。

9.根据权利要求8所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，所述真空室的外壁设有矩形炉门，所述支撑环上设有与所述矩形炉门匹配的缺口。

10.根据权利要求9所述的用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，其特征在于，柔性薄膜置于支撑结构外侧，通过铝箔条将柔性薄膜固定在真空室及支撑结构之间。