[实用新型]一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件

说明书

本实用新型涉及磁控溅射装备技术领域，尤其是涉及一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，配合圆柱形真空室使用，包括支撑结构，所述支撑结构的外侧设有柔性薄膜，所述支撑结构位于真空室内部且所述柔性薄膜固定在所述真空室内壁及所述支撑结构之间。本实用新型的捕集组件，能够实现放射性靶材磁控溅射镀膜过程中，真空室内壁的屏蔽，降低放射性靶材物质对真空室的污染，同时收集了沉积在真空室的放射性靶材物质，减少了放射性固体废物量，降低了放射性靶材物质回收的难度。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射装备技术领域，尤其是涉及一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件。

背景技术

在进行放射性靶材的磁控溅射管内壁镀膜时，被溅射出来的放射性靶材物质大部分沉积在了待镀管工件内壁上，此外还有部分放射性靶材物质会进入真空室，这部分靶材物质有两个去向，一是被真空泵抽走进入尾气系统，另一部分则会沉积在真空室内壁。进入尾气系统的放射性靶材物质由过滤系统收集，而沉积在真空室内壁的放射性靶材物质不仅会污染整个真空腔室，还增加了放射性靶材物质回收的难度。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，能够避免真空室内壁的污染以及降低放射性靶材物质回收的难度。

本实用新型提供一种用于磁控溅射放射性逸散粒子的捕集组件，配合圆柱形真空室使用，包括支撑结构，所述支撑结构的外侧设有柔性薄膜，所述支撑结构位于真空室内部且所述柔性薄膜固定在所述真空室内壁及所述支撑结构之间。

进一步地，所述柔性薄膜沿竖直方向覆盖整个真空室内壁。

进一步地，所述柔性薄膜为能够承受镀膜温度的薄膜材料。

进一步地，所述柔性薄膜为铝箔。

进一步地，所述支撑结构为框架式镂空结构。

进一步地，所述支撑环边缘上设有三条与支撑环轴线平行的支撑杆，相对设置的两个支撑杆的下端通过连接杆固定连接。

进一步地，所述支撑环的直径与所述真空室内壁的直径相同。

进一步地，所述支撑结构采用铁丝制成。

进一步地，所述真空室的外壁设有矩形炉门，所述支撑环上设有与所述矩形炉门匹配的缺口。

进一步地，柔性薄膜置于支撑结构外侧，通过铝箔条将柔性薄膜固定在真空室及支撑结构之间。

有益效果：

本实用新型的捕集组件，能够实现放射性靶材磁控溅射镀膜过程中，真空室内壁的屏蔽，降低放射性靶材物质对真空室的污染，同时收集了沉积在真空室的放射性靶材物质，减少了放射性固体废物量，降低了放射性靶材物质回收的难度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型中真空室的示意图；

图2为本实用新型的整体示意图。

附图标记说明：1-真空室、2-柔性薄膜3-支撑结构、301-支撑环、302-支撑杆、303-连接杆、4-矩形炉门。

具体实施方式

下面将结合实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。