[实用新型]过滤装置和晶体生长装置

说明书

本实用新型公开了一种过滤装置和晶体生长装置，所述过滤装置包括：壳体，壳体内具有过滤腔，壳体上形成有与过滤腔连通的进气口和出气口，过滤腔的底部设有排尘口；过滤件，过滤件设于过滤腔内且位于进气口和出气口之间，过滤件用于过滤粉尘；振动机构，振动机构适于与过滤件相连，振动机构用于驱动过滤件振动。根据本实用新型的过滤装置，通过在过滤腔内设有过滤件，用来过滤气体中的粉尘；并且设置了振动机构与过滤件相连，振动机构可对过滤件的滤芯外表面进行振动除尘，延长过滤件的使用时间，由此，提高过滤装置的寿命；在过滤腔的底部还设有排尘口，可以定期的将粉尘通过排尘口排出，有效避免罐体内残余粉尘回流到晶体生长设备腔体内。

技术领域

本实用新型涉及硅晶体生产设备技术领域，尤其是涉及一种过滤装置和晶体生长装置。

背景技术

在晶体生长过程中，炉体一般在真空状态下进行工作，并且伴随着工艺气体的输入，因此需要对晶体生长设备用真空泵进行持续抽空作业，在抽真空的过程中，会伴随着大量的反应挥发物进入真空泵，长时间的持续抽空工作，微小颗粒状的挥发物会导致真空泵寿命降低，甚至导致真空泵在晶体生长过程中，发生故障无法工作。如果不对晶体生长炉的尾气进行过滤处理，则无法达到真空泵使用环境要求。

因此，需在真空泵前端加装尾气粉尘过滤装置。现有过滤装置一般为单罐过滤、双罐过滤、双罐切换过滤为主。在相同的过滤效果下，其中，单罐过滤只有一个过滤罐，过滤工作时间短，工作一段时间后，滤芯表面会被挥发物堵住无法起到过滤作用，真空泵抽空能力下降，导致炉内压力升高；双罐过滤，是在单罐的基础再并联一套单罐，这样解决了单罐的过滤时间短的问题，但由于长晶工艺改进，晶体生长时间延长，导致双罐无法满足更长的工作需求；双罐切换过滤装置，导入了罐体的切换控制，增加了成本，且罐体切换时炉压有所波动。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型在于提出一种过滤装置，所述过滤装置可以延长过滤件的寿命，可以有效避免罐体内残余粉尘回流到晶体生长设备腔体内。

本实用新型还提出一种具有上述过滤装置的晶体生长装置。

根据本实用新型第一方面的过滤装置，包括：壳体，所述壳体内具有过滤腔，所述壳体上形成有与所述过滤腔连通的进气口和出气口，所述过滤腔的底部设有排尘口；过滤件，所述过滤件设于所述过滤腔内且位于所述进气口和所述出气口之间，所述过滤件用于过滤粉尘；振动机构，所述振动机构适于与所述过滤件相连，所述振动机构用于驱动所述过滤件振动。

根据本实用新型的过滤装置，通过在过滤腔内设有过滤件，用来过滤尾气气体中的粉尘；并且设置了振动机构与过滤件相连，振动机构可对过滤件的滤芯外表面进行振动除尘，延长过滤件的使用时间，由此，提高过滤装置的寿命；在过滤腔的底部还设有排尘口，可以定期的将粉尘通过排尘口排出，有效避免罐体内残余粉尘回流到晶体生长设备腔体内。

在一些实施例中，所述振动机构具有振动件，所述振动件在第一位置和第二位置之间可活动，所述振动件在第一位置时与所述过滤件间隔开，所述振动件在所述第二位置时与所述过滤件接触且适于驱动所述过滤件振动。

在一些实施例中，所述过滤装置还包括：吹扫机构，所述吹扫机构包括吹气管，其中，所述吹气管的一端伸入所述过滤腔内用于吹扫所述过滤件上的粉尘；或，所述过滤件形成为环形筒状并在内侧限定出气流通道，所述气流通道连通至所述出气口，所述吹气管的一端伸入所述气流通道内用于吹扫所述过滤件上的粉尘。

在一些实施例中，所述过滤装置还包括：控制器，所述控制器与所述吹扫机构和所述振动机构通讯连接，所述控制器构造成在所述振动机构驱动所述过滤件振动时控制所述吹气管吹扫所述过滤件。

在一些实施例中，所述壳体内设有隔板，所述隔板将所述过滤腔分隔为第一腔和第二腔，所述进气口和所述排尘口均与所述第一腔连通，所述出气口与第二腔连通，所述过滤件设于所述第一腔内，所述过滤件形成为环形筒状并在内侧限定出气流通道，所述气流通道的出口连通所述第二腔。