[实用新型]一种芯片涂胶结构有效
申请号: | 202222503730.6 | 申请日: | 2022-09-21 |
公开(公告)号: | CN218182176U | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 王成功 | 申请(专利权)人: | 成都复锦功率半导体技术发展有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人: | 张巨箭 |
地址: | 610212 四川省成都市中国(四川)*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 芯片 涂胶 结构 | ||
1.一种芯片涂胶结构,其特征在于,包括:
涂胶块(1),其内部成型有用于存放粘结材料的第一通道(2),以及具有连接在所述第一通道(2)底部的涂胶孔片(3)和用于连接基底的底部空腔(4),其中,所述底部空腔(4)位于所述涂胶孔片(3)正下方,所述涂胶孔片(3)包括多个涂胶孔(31);
以及用于驱动粘结材料从涂胶孔片(3)中流出的涂胶动力部(5),所述涂胶动力部(5)与所述第一通道(2)连通。
2.根据权利要求1所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述涂胶块(1)的侧面设有用于插入所述涂胶孔片(3)的插口(32)。
3.根据权利要求1所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,涂胶动力部(5)包括设置在涂胶块(1)顶部的第二通道(51),所述第二通道(51)连通所述第一通道(2),所述第二通道(51)为压缩空气通道。
4.根据权利要求1所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述涂胶块(1)为长方型,所述涂胶孔片(3)为长方型。
5.根据权利要求1所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述涂胶孔(31)为圆柱孔或方形孔。
6.根据权利要求1所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述底部空腔(4)的长度小于所述涂胶块(1)的长度。
7.根据权利要求6所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述底部空腔(4)的高度为芯片厚度的一半或等于芯片厚度。
8.根据权利要求1所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述涂胶块(1)的顶部竖直设有涂胶块平衡机构(6),所述涂胶块平衡机构(6)为方型,其内部设置有球形杆(61)和活动套球(62),所述球形杆(61)的下端与所述涂胶块(1)连接,所述球形杆(61)的上端埋设于所述活动套球(62)中。
9.根据权利要求8所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述活动套球(62)包括套球上部(621)和套球下部(622),其中,所述套球上部(621)穿过球形杆(61)的杆部,套球下部(622)套在所述球形杆(61)的球部。
10.根据权利要求8所述的一种芯片涂胶结构,其特征在于,所述涂胶块平衡机构(6)与所述涂胶动力部(5)平行。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造