[实用新型]一种用于处理硬碳颗粒的原子沉积改性设备

说明书

本实用新型公开了一种用于处理硬碳颗粒的原子沉积改性设备，包括颗粒产生器，颗粒产生器设有颗粒出口；腔室本体、气体分布板、分布板衬板，分布板衬板设置于气体分布板下方，分布板衬板的底部设有滑轮，腔室本体底部设有滑轨；第一腔室、第二腔室、第三腔室之间设有隔板，隔板底部与腔室本体之间设有间距，间距与分布板衬板的厚度一致。采用将腔室本体分隔出多个腔室的方式，减少了第一次在前驱体气体注入后再次注入惰性气体进行清扫的难度，可驱动分布板衬板在轨道移动，移动至第二腔室即可，并且当在第二腔室完成针对硬碳颗粒包裹覆盖层的操作，最后在第三腔室完成检测步骤，具有良好的可操作性，也十分便于清扫。

技术领域

本实用新型涉及原子沉积技术领域，尤其涉及一种用于处理硬碳颗粒的原子沉积改性设备。

背景技术

在当前技术中，原子层沉积(ALD)是一种将物质以单原子膜的形式逐层沉积在基底表面的方法。在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应与前一层直接相关。采用这样的方式，单次反应只沉积一层原子。原子层沉积的每个循环包括两个半反应，每个反应中的步骤的化学吸附和表面化学反应具有明显的自限性和互补性。这种自限特性是原子层沉积技术的基础。在实际应用中，不断重复这种自限反应形成所需的薄膜。

一个原子层沉积循环可分为四个步骤：

1)将第一前驱体气体通入衬底，衬底将吸附或与衬底表面反应；

2)用惰性气体冲洗剩余气体；

3)通过第二前体气体，与吸附在基板表面的第一前体气体发生化学反应形成涂层，或者与第一前体反应的产物与基板继续反应形成涂层；

4)再次使用冲洗气体冲洗掉多余的气体。

相关技术中的原子层沉积镀膜设备通常包括镀膜腔室，该镀膜腔室内部在空间上可分为多个区域，进行镀膜作业时，源气体进入到镀膜腔室，分散存在不均匀情况。同时，根据镀膜工艺可能需要切换不同的源气体，在切换下一类源气体前需对镀膜腔室内进行气体清扫，避免前一阶段的源气体及其反应物造成污染，目前清扫通常是往镀膜腔室充入清洁气体如惰性气体，其存着清扫不充分的情况，如清扫不到拐角或者源气体输入端附近的问题。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

发明内容

为了满足上述要求，本实用新型的目的在于提供一种用于处理硬碳颗粒的原子沉积改性设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种用于处理硬碳颗粒的原子沉积改性设备，包括：

颗粒产生器，所述颗粒产生器设有颗粒出口，

腔室本体，所述腔室本体内限定有第一腔室、第二腔室、第三腔室，所述第一腔室设有颗粒入口，所述颗粒入口与颗粒出口连接；

气体分布板，所述气体分布板设在所述腔室本体内以将所述腔室分割为上腔室和下腔室，所述上腔室具有进气口且所述下腔室具有出气口，所述气体分布板上设有将所述上腔室和所述下腔室连通的多个分配孔；

分布板衬板，所述分布板衬板设置于气体分布板下方，所述分布板衬板的底部设有滑轮，所述腔室本体底部设有滑轨；所述第一腔室、第二腔室、第三腔室之间设有隔板，所述隔板底部与腔室本体之间设有间距，所述间距与分布板衬板的厚度一致。

在一实施例中，所述分布板衬板上设有多个通孔。

在一实施例中，所述分布板衬板连接有气缸，所述气缸用于驱动所述分布板衬板在第一腔室、第二腔室、第三腔室之间移动。

在一实施例中，所述隔板上方设有压紧装置。