[实用新型]一种均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒

说明书

本实用新型公开了一种均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒，包括：滚筒本体、用于承载限位滚筒本体的承接机构及承接机构外设置其传动作用的传动齿轮；所述滚筒本体的内侧中心对称设置有定位挡板；所述承接机构设置在滚筒本体的外侧，且承接机构由连接板、支撑杆、限位块和加热管构成。该均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒，便于对该滚筒进行拆装更换，以便达到方便清洗，并便于减少对镀膜物件转动产生的损伤，使之使用寿命长的目的，便于使滚筒本体带动其内容纳腔的物件进行转动，以此通过提高待镀膜物件与成膜物质接触面积，来使待镀膜物件镀膜均匀，并提高镀膜效率，以及便于使加热管对镀膜物件进行加热提高成膜效率。

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜机技术领域，具体为一种均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒。

背景技术

磁控溅射镀膜主要用于电子工业、磁性材料及记录介质、光学及光导通讯等，是真空镀膜的方法之一，其是通过将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材结构，产生阴极溅射，把靶材结构原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术，而滚筒是镀膜过程中常用的工件。

如授权公告号为CN211142147U的中国实用新型专利公开了一种溅射镀膜一体机用滚筒，属于溅射镀膜设备技术领域，包括滚筒本体、两个滚轮、两个圆环形齿轮、若干支撑导柱和挡板组件，所述滚筒本体内部设有供待镀膜物品承放的容纳腔，所述滚筒本体的侧壁上设有与容纳腔连通的圆形贯穿槽，两个所述滚轮分别安装在滚筒本体的两端，两个所述圆环形齿轮分别安装在滚筒本体的两侧，若干所述支撑导柱围绕着所述滚筒本体的轴线方向均匀设置，所述挡板组件设置在滚筒本体的内圆周壁上，本申请在镀膜的过程中滚动，则能让容纳腔内的大量物件跟随着滚筒本体转动，增加所有的待镀膜的物件与成膜物质的接触面积，提高镀膜的均匀性。

但现有的溅射镀膜机用滚筒，在使用过程中，一般不便于对滚筒进行拆装更换，难以进行清洗，且在对镀膜物件转动时易产生损伤，难以使之使用寿命长，以及不便于对镀膜物件进行加热，难以提高成膜效率，因此，我们提出一种均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒，以便于解决上述中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒，以解决上述背景技术中提出现有的溅射镀膜机用滚筒，在使用过程中，一般不便于对滚筒进行拆装更换，难以进行清洗，且在对镀膜物件转动时易产生损伤，难以使之使用寿命长，以及不便于对镀膜物件进行加热，难以提高成膜效率的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种均匀镀膜的溅射镀膜机用滚筒，包括：滚筒本体、用于承载限位滚筒本体的承接机构及承接机构外设置其传动作用的传动齿轮；

还包括：

所述滚筒本体的内侧中心对称设置有定位挡板；

所述承接机构设置在滚筒本体的外侧，且承接机构由连接板、支撑杆、限位块和加热管构成；

所述传动齿轮通过螺钉固定在连接板的外侧；

加热管，所述加热管镶嵌安装在连接板的内端内侧，且加热管的外侧直径尺寸小于滚筒本体的内侧直径尺寸；

不锈钢板，所述不锈钢板位于定位挡板的内侧，且不锈钢板的外侧粘贴固定有橡胶垫。

优选的，所述承接机构关于滚筒本体中心对称设置，且连接板通过螺钉与滚筒本体固定连接。

优选的，所述支撑杆和限位块均与连接板为固定一体化结构，且支撑杆在连接板的一端等间距设置，并且支撑杆的高度尺寸与滚筒本体的高度尺寸相同。

优选的，所述限位块与滚筒本体贴合连接，且传动齿轮的内侧直径尺寸大于滚筒本体和连接板的内侧直径尺寸。

优选的，所述不锈钢板与滚筒本体为固定连接，且不锈钢板呈倾斜状结构。