[实用新型]一种蒸发器皿以及真空镀膜系统

权利要求书

1.一种蒸发器皿，包括具有底壁(11)的第一蒸发池(1)，其特征在于，所述第一蒸发池(1)内设置有池壁(2)，所述池壁(2)从所述底壁(11)向上延伸设置，所述池壁(2)首尾相接以形成第二蒸发池(3)，所述第二蒸发池(3)用于容纳金属蒸发液，所述第一蒸发池(1)用于容纳由所述第二蒸发池(3)溢出的所述金属蒸发液。

2.根据权利要求1所述的蒸发器皿，其特征在于，所述蒸发器皿包括第一表面(101)、第二表面(102)以及第三表面(103)，所述第一表面(101)设置于所述第二表面(102)的上方，所述第三表面(103)连接于所述第一表面(101)和所述第二表面(102)之间，所述第三表面(103)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置，所述第三表面(103)从所述第一表面(101)倾斜向内地延伸至所述第二表面(102)。

3.根据权利要求2所述的蒸发器皿，其特征在于，所述蒸发器皿具有上宽下窄的梯形截面。

4.根据权利要求1所述的蒸发器皿，其特征在于，所述蒸发器皿包括第一表面(101)、第二表面(102)以及第三表面(103)，所述第一表面(101)设置于所述第二表面(102)的上方，所述第三表面(103)连接于所述第一表面(101)和所述第二表面(102)之间，所述第三表面(103)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置，所述第三表面(103)从所述第一表面(101)竖直向下地延伸至所述第二表面(102)。

5.根据权利要求4所述的蒸发器皿，其特征在于，所述蒸发器皿具有矩形截面。

6.根据权利要求1所述的蒸发器皿，其特征在于，

所述第一蒸发池(1)包括相邻的内侧壁(12)，所述相邻的内侧壁(12)的连接处设置有圆角(44)；并且/或者

所述第一蒸发池(1)与所述第二蒸发池(3)的深度均为1mm至5mm。

7.根据权利要求2或4所述的蒸发器皿，其特征在于，所述池壁(2)具有顶面(21)，所述第一表面(101)与所述顶面(21)的高度相等。

8.根据权利要求1所述的蒸发器皿，其特征在于，所述第一蒸发池(1)包括内侧壁(12)，所述池壁(2)包括外侧壁(22)，所述内侧壁(12)与所述外侧壁(22)之间的距离为1mm至20mm；并且/或者，所述第二蒸发池(3)包括第一池体(31)以及两个第二池体(32)，所述第一池体(31)沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置，两个所述第二池体(32)分别设置于所述第一池体(31)的两端并与所述第一池体(31)连通，所述第二池体(32)在所述蒸发器皿的宽度方向上的尺寸大于所述第一池体(31)在所述蒸发器皿的宽度方向上的尺寸。

9.根据权利要求8所述的蒸发器皿，其特征在于，所述第二蒸发池(3)具有工字型的投影轮廓。

10.一种真空镀膜系统，其特征在于，所述真空镀膜系统包括根据权利要求1-9中任意一项所述的蒸发器皿。