[实用新型]一种蒸发器皿以及真空镀膜系统

说明书

本实用新型涉及真空蒸镀技术领域，公开了一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。所述蒸发器皿包括具有底壁的第一蒸发池，所述第一蒸发池内设置有池壁，所述池壁从所述底壁向上延伸设置，所述池壁首尾相接以形成第二蒸发池，所述第二蒸发池用于容纳金属蒸发液，所述第一蒸发池用于容纳由所述第二蒸发池溢出的所述金属蒸发液。本实用新型的蒸发器皿通过在第一蒸发池内设置池壁，并且该池壁首尾相接形成第二蒸发池，由于第二蒸发池的面积小于第一蒸发池的面积，金属蒸发液更容易在第二蒸发池内铺满，从而能够提高蒸发器皿的润湿性，并且第一蒸发池和第二蒸发池处于同一温度场下，即使金属蒸发液溢出第二蒸发池外，也不会因温场变化造成金属蒸发液的飞溅。

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀技术领域，具体地涉及一种蒸发器皿以及真空镀膜系统。

背景技术

真空蒸镀是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。

蒸发器皿是蒸发源的重要工作部件，通常用于真空镀膜系统中。蒸镀过程中，送丝机构将金属丝送至蒸发器皿上表面，通过电流加热，蒸发器皿将其上的金属丝汽化为金属蒸汽，金属蒸汽均匀沉积在衬底层上形成金属镀层。蒸发器皿的好坏对金属镀层的镀膜均匀性、成膜质量等参数有着重要影响。

然而，在实际生产薄膜的过程中，由于现有的蒸发器皿润湿性较差，金属蒸发液分布不均，无法铺满整个蒸发池。位于边缘的金属蒸发液与蒸发器皿之间的温差较大，容易产生金属液滴的飞溅，金属液滴飞溅到薄膜上时很可能还会将薄膜烧穿，形成孔洞。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的蒸发器皿润湿性差的问题，提供一种蒸发器皿，该蒸发器皿能够减少金属蒸发液的飞溅。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种蒸发器皿，包括具有底壁的第一蒸发池，所述第一蒸发池内设置有池壁，所述池壁从所述底壁向上延伸设置，所述池壁首尾相接以形成第二蒸发池，所述第二蒸发池用于容纳金属蒸发液，所述第一蒸发池用于容纳由所述第二蒸发池溢出的所述金属蒸发液。

可选地，所述蒸发器皿包括第一表面、第二表面以及第三表面，所述第一表面设置于所述第二表面的上方，所述第三表面连接于所述第一表面和所述第二表面之间，所述第三表面沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置，所述第三表面从所述第一表面倾斜向内地延伸至所述第二表面。

可选地，所述蒸发器皿具有上宽下窄的梯形截面。

可选地，所述蒸发器皿包括第一表面、第二表面以及第三表面，所述第一表面设置于所述第二表面的上方，所述第三表面连接于所述第一表面和所述第二表面之间，所述第三表面沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置，所述第三表面从所述第一表面竖直向下地延伸至所述第二表面。

可选地，所述蒸发器皿具有矩形截面。

可选地，所述第一蒸发池包括相邻的内侧壁，所述相邻的内侧壁的连接处设置有圆角。

可选地，所述第一蒸发池与所述第二蒸发池的深度均为1mm至5mm。

可选地，所述池壁具有顶面，所述第一表面与所述顶面的高度相等。

可选地，所述第一蒸发池包括内侧壁，所述池壁包括外侧壁，所述内侧壁与所述外侧壁之间的距离为1mm至20mm。

可选地，所述第二蒸发池包括第一池体以及两个第二池体，所述第一池体沿所述蒸发器皿的长度方向延伸设置，两个所述第二池体分别设置于所述第一池体的两端并与所述第一池体连通，所述第二池体在所述蒸发器皿的宽度方向上的尺寸大于所述第一池体在所述蒸发器皿的宽度方向上的尺寸。

可选地，所述第二蒸发池具有工字型的投影轮廓。