[实用新型]一种具有高温带的ALD喷淋组件有效
申请号: | 202222552531.4 | 申请日: | 2022-09-26 |
公开(公告)号: | CN219603680U | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
发明(设计)人: | 陈泽其;吴旭荣;陈阳泉;戴亮亮;卢发树;柯雨馨;许光荣 | 申请(专利权)人: | 阳光中科(福建)能源股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/40;H01L21/67 |
代理公司: | 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 | 代理人: | 吕林凤 |
地址: | 362000 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 温带 ald 喷淋 组件 | ||
本实用新型公开了一种具有高温带的ALD喷淋组件,包括:基板,用于容置待加工件;锁紧件,用于ALD(Atomic layer deposition,ALD)工序中ALD喷淋组件的固定;高温带,位于所述基板的上表面,用于使ALD喷淋组件和ALD设备内腔体端面紧密贴合;所述ALD喷淋组件,用于PERC(Passivated Emitter and Rear Cell,PERC)太阳能电池的ALD方式氧化铝膜沉积。因此,本申请实现了ALD喷淋组件和内腔体的端面贴合更好,提高ALD设备内腔体气密性,提高产线良率,以及改善了内腔体端面和ALD喷淋组件沉积过多的氧化铝。
技术领域
本实用新型涉及ALD镀膜技术领域,尤其涉及一种具有高温带的ALD喷淋组件。
背景技术
原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是一种利用衬底表面上前驱体的表面饱和反应所产生的化学吸附和脱附而形成单原子层的沉积技术,这项技术是将物质以单原子层的形式一层一层地沉积在衬底表面,并且通过控制反应周期数简单、精确地控制薄厚。
而现有ALD方式的PERC(Passivated Emitter and Rear Cell,PERC)太阳能电池的工艺路线为:制绒-扩散-SE-刻蚀/背抛-热氧化-背面ALD方式氧化铝膜沉积-正面氮化硅膜沉积-背面氮化硅膜沉积(PECVD)-激光开槽-丝印印刷-烧结。
如图2所示,其目前存在加工件PERC太阳能500电池外观气流片呈条状型的问题。
如图1所示,所述问题是由于ALD设备内腔体端面和现有的ALD喷淋组件基板上表面20,贴合不够紧密,气密性不足,导致ALD设备内腔体真空性不良,导致臭氧和TMA(三甲基铝)的混合气体从原本经过匀流板到PERC太阳能电池的缓慢匀流状态,由于ALD设备内腔体内外气压差,变得向漏气点单向快速流动。其臭氧和TMA是为了保证PERC太阳能电池大产能并且得到沉积均匀的薄膜。
所述问题导致降低了生产的良率,以及导致ALD设备内腔体端面和现有的ALD喷淋组件基板上表面沉积过多的氧化铝,需用铲刀进行清理后用砂纸或磨石进行直接打磨,磨痕损伤,设备保养周期较短。
因此,如何通过对现有的ALD喷淋组件的改善,以最低的成本,使ALD设备内腔体端面和ALD喷淋组件紧密贴合,提高气ALD设备内腔体密性,是目前有待解决的技术问题。
实用新型内容
为解决上述的问题,本实用新型提供一种具有高温带的ALD喷淋组件,包括:
基板,用于容置待加工件;
锁紧件,用于ALD工序中ALD喷淋组件的固定;
高温带,位于所述基板的上表面,用于使ALD喷淋组件和ALD设备内腔体端面紧密贴合;
所述ALD喷淋组件,用于PERC太阳能电池的ALD方式氧化铝膜沉积。
优选地,所述高温带口字型贴于所述基板的上表面的四条边,及所述基板的上表面待加工件的下边。
优选地,所述高温带为聚酰亚胺(PI)薄膜材料、铁氟龙材料或PET(Polyethyleneterephthalate)材料。
因此,本申请实现了ALD喷淋组件和内腔体的端面贴合更好,气密性更好,提高ALD设备内腔体气密性,解决了加工件PERC太阳能外观气流片呈条状型的问题,提高产线良率,以及改善了内腔体端面和ALD喷淋组件沉积过多的氧化铝,导致在清理打磨时对内腔体及喷淋板的磨损,延长了其保养周期及缩短保养时间,并且可以通过更换高温带达到清理内腔体端面和喷淋板贴合处的氧化铝沉积物,减少对内腔体端面和喷淋板贴合处进行直接打磨清理,减少磨痕损伤的有益效果。
附图说明
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的