[实用新型]一种匀浆装置和淋釉器

权利要求书

1.一种匀浆装置，其特征在于，包括用于容置釉浆的釉槽、用于匀化釉浆的匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；

其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔。

2.如权利要求1所述的匀浆装置，其特征在于，所述匀浆辊呈中空结构，所述匀浆辊的表面均匀分布有多个所述匀浆孔。

3.如权利要求1所述的匀浆装置，其特征在于，所述匀浆孔至少设有2个，所述匀浆孔在所述匀浆辊的表面上呈螺旋状分布。

4.一种淋釉器，其特征在于，包括权利要求1至3任意一项的匀浆装置、用于导出釉浆的淋釉板和与所述淋釉板对应设置的载釉滚筒，所述釉槽内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒，移至所述淋釉板处；

其中，所述釉槽设有与所述釉槽连通的进釉管，所述匀浆辊位于所述载釉滚筒的下方。

5.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述进釉管与所述匀浆辊相对应设置，以供釉浆流向所述匀浆辊。

6.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述进釉管设有一段用于与外部供釉设备连通的输釉管，所述输釉管设有与所述输釉管连通的排气阀。

7.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述釉槽的侧壁开设有用于控制液面高度的溢流口。

8.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，还包括位于所述淋釉板下方的接釉槽，所述釉槽的底部设有用排釉管，所述排釉管与接釉槽之间设有导流槽，以将所述排釉管流出的釉浆引入所述接釉槽。

9.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述淋釉板的两侧设有用于稳定釉幕流动状态的稳流板；

所述淋釉板的上下两边分别为接釉边和出釉边，所述接釉边与所述载釉滚筒之间留有预设间距的载釉缝隙，所述稳流板设于所述出釉边的两侧。

10.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，还包括振动器，所述振动器设于所述釉槽上。