[实用新型]一种匀浆装置和淋釉器

说明书

本实用新型公开了一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽、用于匀化釉浆的匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔。相应地，本实用新型还公开了一种采用上述匀浆装置的淋釉器。采用本实用新型，结构简单、匀浆效果好且可对釉浆液面的平稳性的影响小，且能有效防止釉浆凝结。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷生产技术领域，尤其涉及一种匀浆装置和淋釉器。

背景技术

釉浆属于易于凝结物，特别是，静止状态或流动过慢的釉浆特别容易凝结。因此，现有淋釉设备的储蓄槽往往会设有搅拌装置，以避免釉浆粘结的产生。

但对高要求的瓷砖来说，现有搅拌装置的搅拌力度过大，容易在釉浆的液面产生波纹，而影响釉浆上辊的均匀程度，从而影响瓷砖的上釉效果。特别是，采用螺旋叶片式的搅拌装置，会使储蓄槽内的釉浆产生来回的震荡。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种匀浆装置，结构简单、匀浆效果好且可对釉浆液面的平稳性的影响小。

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种淋釉器，淋釉稳定均匀，而且能有效防止釉浆的凝结。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽、用于匀化釉浆的匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；

其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔。

作为上述方案的改进，所述匀浆辊呈中空结构，所述匀浆辊的表面均匀分布有多个所述匀浆孔。

作为上述方案的改进，所述匀浆孔至少设有2个，所述匀浆孔在所述匀浆辊的表面上呈螺旋状分布。

一种淋釉器，包括上述的匀浆装置、用于导出釉浆的淋釉板和与所述淋釉板对应设置的载釉滚筒，所述釉槽内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒，移至所述淋釉板处；

其中，所述釉槽设有与所述釉槽连通的进釉管，所述匀浆辊位于所述载釉滚筒的下方。

作为上述方案的改进，所述进釉管与所述匀浆辊相对应设置，以供釉浆流向所述匀浆辊。

作为上述方案的改进，所述进釉管设有一段用于与外部供釉设备连通的输釉管，所述输釉管设有与所述输釉管连通的排气阀。

作为上述方案的改进，所述釉槽的侧壁开设有用于控制液面高度的溢流口。

作为上述方案的改进，还包括位于所述淋釉板下方的接釉槽，所述釉槽的底部设有用排釉管，所述排釉管与接釉槽之间设有导流槽，以将所述排釉管流出的釉浆引入所述接釉槽。

作为上述方案的改进，所述淋釉板的两侧设有用于稳定釉幕流动状态的稳流板；

所述淋釉板的上下两边分别为接釉边和出釉边，所述接釉边与所述载釉滚筒之间留有预设间距的载釉缝隙，所述稳流板设于所述出釉边的两侧。

作为上述方案的改进，还包括振动器，所述振动器设于所述釉槽上。

实施本实用新型，具有如下有益效果：

本实用新型实施例公开了一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽、匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；