[实用新型]一种基板支撑装置

说明书

本实用新型公开了一种基板支撑装置，包括工作台及旋转台，旋转台能够绕转动中心线相对旋转地设置在工作台上，转动中心线沿上下方向延伸，基板支撑装置还包括导液座，导液座设于旋转台的上方，导液座与工作台相对固定地设置，导液座的周向外表面位于一虚拟圆锥面内，虚拟圆锥面的顶点朝上，虚拟圆锥面的中心线与转动中心线相重合。本实用新型提供的基板支撑装置，基板背面清洗后中心滴落的清洗液能够沿着导液座的周向外表面导流至旋转台上，并在离心力的作用下甩出旋转台，使得旋转台及导液座的表面均能够干燥清洁，从而有助于维持基板清洗效果，并有效避免后续抓取基板的机械手被污染。

技术领域

本实用新型涉及半导体湿法工艺过程中的单片清洗设备，尤其涉及一种基板支撑装置。

背景技术

在半导体制程中，为了保证半导体器件的成品率，需要对半导体基板的正面和背面进行清洗。在基板的清洗过程中，基板被固定在旋转台上，正面朝上，反面朝下。伴随着电机带动旋转台进行旋转运动，基板的背部被持续地喷射清洗液进行清洗。现有的基板支撑装置存在以下问题：基板在进行背面清洗之后，基板的背面能够被清洗得达到清洗要求，但在清洗过程中，清洗液会残留在支撑装置中心的固定盘上，受到结构的限制，固定盘不会旋转，导致在基板清洗过后，固定盘上的清洗液难以排出，机械手取放基板过程中，残留的清洗液会污染机械手以及基板，这样会对基板进行二次污染，导致基板清洗过后，不能达到实际的清洗要求。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术存在的不足，提供一种清洗液不易残留、能够保证基板清洗效果的基板支撑装置。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

一种基板支撑装置，包括工作台及旋转台，所述旋转台能够绕转动中心线相对旋转地设置在所述工作台上，所述转动中心线沿上下方向延伸，所述基板支撑装置还包括导液座，所述导液座设于所述旋转台的上方，所述导液座与所述工作台相对固定地设置，所述导液座的周向外表面位于一虚拟圆锥面内，所述虚拟圆锥面的顶点朝上，所述虚拟圆锥面的中心线与所述转动中心线相重合。

在一些优选实施方式中，所述虚拟圆锥面的锥角为95°~110°。

在一些优选实施方式中，所述基板支撑装置还包括用于将基板固定在所述旋转台上的基板定位机构，当所述基板固定在所述旋转台上时，所述基板的下表面与旋转台间隔设置，所述导液座位于所述基板与所述旋转台之间，所述导液座的顶部与所述基板间隔设置。

在一些优选实施方式中，所述基板定位机构包括沿所述旋转台的周向间隔设置的多个支撑件与多个定位件，当所述基板固定在所述旋转台上时，每个所述支撑件均支撑于所述基板的下方，每个所述定位件均抵靠在所述基板的周向侧壁上。

在一些优选实施方式中，所述基板支撑装置还包括运动盘，所述运动盘固设于所述旋转台上，所述运动盘的中心线与所述转动中心线相重合，所述运动盘的直径小于所述旋转台的直径，所述运动盘的上表面高于所述旋转台的上表面，所述运动盘的周向侧壁具有导向斜面，所述导向斜面沿所述运动盘的径向自内向外逐渐向下倾斜延伸，部分所述导液座位于所述运动盘的上方。

在一些优选实施方式中，所述旋转台的中心开设有安装口，所述基板支撑装置还包括安装座，所述安装座与所述工作台相对固定地设置，至少部分所述安装座沿上下方向穿设于所述安装口中，所述导液座与所述安装座固定设置。

在一些优选实施方式中，所述基板支撑装置还包括用于驱动所述旋转台旋转的驱动装置，所述驱动装置包括驱动轴，所述驱动轴能够绕所述转动中心线旋转，所述驱动轴与所述旋转台固定连接，至少部分所述驱动轴穿设于所述安装口中。

在一些优选实施方式中，所述基板支撑装置还包括至少一条背喷管道，所述背喷管道的中心线与所述转动中心线平行或重合，所述背喷管道自下而上穿过所述安装座及所述导液座，当所述基板固定在所述旋转台上时，所述背喷管道的出液口位于所述基板的下方。