[实用新型]一种用于真空溅射装置的水冷平台机构

权利要求书

1.一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，包括底板(1)和转动连接在底板(1)上的旋转轴(2)，所述旋转轴(2)沿竖直方向设置，所述旋转轴(2)远离底板(1)的一端设置有旋转平台(3)，所述旋转平台(3)竖直方向的下方设置有加热盘(4)，其特征在于：所述旋转轴(2)包括内部中空的外圈外套(21)、插设在外圈外套(21)内的内圈外套(22)、插设在内圈外套(22)内的中心轴(23)，所述外圈外套(21)、内圈外套(22)、中心轴(23)为同轴设置，所述外圈外套(21)与内圈外套(22)之间间隔形成外回水路(24)，所述内圈外套(22)与中心轴(23)之间间隔形成内进水路(25)，所述旋转平台(3)内设置有连通外回水路(24)和内进水路(25)的循环水路(31)；

所述旋转轴(2)接近底板(1)的一端设置有用于向旋转轴(2)内进水和出水的水冷导入机构。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述内进水路(25)接近底板(1)的一端设置有用于封闭内进水路(25)的内封堵圈(251)，所述外回水路(24)接近底板(1)的一端设置有用于封闭外回水路(24)的外封堵圈(241)，所述外封堵圈(241)在旋转轴(2)轴向上的高度高于内封堵圈(251)在旋转轴(2)轴向上的高度。

3.根据权利要求2所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述水冷导入机构包括设置底板(1)上的水冷座(5)、外圈外套(21)外壁与水冷座(5)之间的轴连接座(6)、分别设置在轴连接座(6)两端的上轴承(61)和下轴承(62)、插设在水冷座(5)上的进水管接头(7)和出水管接头(8)，所述进水管接头(7)在旋转轴(2)轴向上低于外封堵圈(241)的最高点，所述轴连接座(6)内开设有与进水管接头(7)连通的进水腔(71)，所述旋转轴(2)上开设有连通内进水路(25)与进水腔(71)的进水口(26)，所述轴连接座(6)内开设有与出水管接头(8)连通的出水腔(81)，所述旋转轴(2)上开设有连通外回水路(24)与出水腔(81)的出水口(27)。

4.根据权利要求3所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述进水口(26)沿旋转轴(2)周向间隔设置有多个，所述出水口(27)沿旋转轴(2)周向间隔设置有多个。

5.根据权利要求3所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述旋转轴(2)和轴连接座(6)之间设置有若干个连接座密封圈(65)，所述连接座密封圈(65)套设在旋转轴(2)上并与旋转轴(2)同轴设置。

6.根据权利要求3所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述轴连接座(6)接近上轴承(61)的一端插设有上进油口接头(9)，所述上进油口接头(9)沿旋转轴(2)径向设置；所述轴连接座(6)接近下轴承(62)的一端插设有下进油口接头(10)，所述下进油口接头(10)沿旋转轴(2)径向设置。

7.根据权利要求6所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述上进油口接头(9)插入轴连接座(6)的一端套设有上密封圈(91)，所述下进油口接头(10)插入轴连接座(6)的一端套设有下密封圈(101)。

8.根据权利要求7所述的一种用于真空溅射装置的水冷平台机构，其特征在于：所述轴连接座(6)与水冷座(5)之间设置有若干个水冷轴密封圈(51)，所述水冷轴密封圈(51)套设在轴连接座(6)轴上并与轴连接座(6)同轴设置。