[实用新型]一种光刻机支架及支架组件

说明书

本实用新型适用于光刻机技术领域，提供了一种光刻机支架及支架组件，包括底板，所述底板的下端左右两侧均安装有支撑腿，且支撑腿的下端内侧设置有定位杆，所述定位杆与支撑腿的连接处安装有调节杆，且定位杆的下端设置有防滑块；限位柱，其安装在底板的上端，所述限位柱的上端外侧设置有支撑板，所述支撑板的下侧设置有第一衔接板；调节板，其设置在第二衔接板的内侧，所述调节板的下端安装有安装杆，所述安装杆和油腔的连接处设置有缓冲板；光刻机底座，其安装在支撑板的上侧，所述支撑板的左右两侧均安装有安装板。该光刻机支架及支架组件，有利于对光刻机进行支撑，具有良好的定位效果，且有利于将装置进行移动。

技术领域

本实用新型属于光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机支架及支架组件。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，光刻机的摆放需要支架组件进行支撑，但现有的大部分装置还存在一些缺陷，本实用新型提出一种新的方案用以解决其中的不足之处。

中国专利授权公告号CN111381450A，公开了一种光刻机框架及光刻机，包括测量支架、主基板、Y向干涉仪支架及连接臂，测量支架的下底面形成有一延伸部，延伸部上沿Y向相对的两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，测量支架的下底面上沿Y向位于延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面，主基板上开设有一凹槽，延伸部位于凹槽内，并且测量支架通过第一下底面和第二下底面与主基板连接，Y向干涉仪支架固定连接于测量支架一端，连接臂设置于主基板内，连接臂一端固定连接于Y向干涉仪支架，另一端固定连接于第一侧壁。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷：不便于对光刻机进行支撑，定位效果不佳，且不便于将装置进行移动，因此我们提出一种光刻机支架及支架组件，以便于解决上述中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种光刻机支架及支架组件，旨在解决不便于对光刻机进行支撑，定位效果不佳，且不便于将装置进行移动的问题。

本实用新型是这样实现的，一种光刻机支架及支架组件，包括底板，所述底板的下端左右两侧均安装有支撑腿，且支撑腿的下端内侧设置有定位杆，所述定位杆与支撑腿的连接处安装有调节杆，且定位杆的下端设置有防滑块；

限位柱，其安装在底板的上端，所述限位柱的上端外侧设置有支撑板，且支撑板和底板的连接处安装有复位弹簧，所述支撑板的下侧设置有第一衔接板，且第一衔接板和底板的连接处安装有第二衔接板；

调节板，其设置在第二衔接板的内侧，所述调节板的下端安装有安装杆，且安装杆的下方设置有安装在底板内部的油腔，所述安装杆和油腔的连接处设置有缓冲板，且缓冲板的内部安装有流通孔；

光刻机底座，其安装在支撑板的上侧，所述支撑板的左右两侧均安装有安装板，且安装板和光刻机底座的连接处设置有定位架，并且定位架和安装板的连接处安装有调节栓。

优选的，所述定位杆在支撑腿的内侧构成升降结构，且定位杆与调节杆采用螺纹的方式相连接。

优选的，所述第一衔接板在支撑板的下侧构成转动结构，且支撑板通过复位弹簧在限位柱的外侧构成弹性伸缩结构。

优选的，所述调节板在第二衔接板的内侧构成滑动结构，且调节板通过安装杆在油腔的上侧构成升降结构。

优选的，所述定位架与光刻机底座采用卡合的方式相连接，且定位架和安装板均与调节栓采用螺纹的方式相连接。

优选的，所述定位架在安装板的内侧构成滑动结构，且安装板在支撑板的上侧构成转动结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该光刻机支架及支架组件，有利于对光刻机进行支撑，具有良好的定位效果，且有利于将装置进行移动。