[实用新型]一种水冷等离子化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种水冷等离子化学气相沉积设备，包括微波发生装置(1)，其特征在于：所述微波发生装置(1)一侧固定连接有用于调整微波反射的三销钉调谐器(2)，所述三销钉调谐器(2)一侧固定连接有模式转换器(5)，所述模式转换器(5)内部滑动连接有天线水管(3)，所述天线水管(3)外侧固定连接有胀紧套(4)，所述胀紧套(4)固定连接于模式转换器(5)内壁，所述模式转换器(5)底部固定连接有腔体上盖(7)，所述腔体上盖(7)底部固定连接有石英玻璃(6)，所述石英玻璃(6)底部固定连接有水冷天线(8)，所述水冷天线(8)底部固定连接有出气环(9)，所述腔体上盖(7)底部固定连接有谐振腔(17)，所述谐振腔(17)内部设置有升降组件。

2.根据权利要求1所述的一种水冷等离子化学气相沉积设备，其特征在于：所述升降组件包括等离子体(14)，所述等离子体(14)设置于谐振腔(17)内部，所述等离子体(14)底部设置有水冷生长台(10)，所述水冷生长台(10)底部安装有升降机构。

3.根据权利要求2所述的一种水冷等离子化学气相沉积设备，其特征在于：所述谐振腔(17)底部固定连接有下腔(15)，所述下腔(15)和石英环密封圈(18)之间安装有腔体用密封圈(16)。

4.根据权利要求2所述的一种水冷等离子化学气相沉积设备，其特征在于：所述天线水管(3)一侧设置有天线进出水口(20)，所述腔体上盖(7)顶部开设有上盖进出水口(21)，所述谐振腔(17)一侧开设有腔体进出水口(22)。

5.根据权利要求3所述的一种水冷等离子化学气相沉积设备，其特征在于：所述下腔(15)内部设置有水冷基台(11)，所述水冷基台(11)固定连接于水冷生长台(10)外侧。

6.根据权利要求3所述的一种水冷等离子化学气相沉积设备，其特征在于：所述下腔(15)底部固定连接有腔体密封板(12)，所述腔体密封板(12)与下腔(15)之间设置有下腔密封圈(13)。

7.根据权利要求1所述的一种水冷等离子化学气相沉积设备，其特征在于：所述石英玻璃(6)和腔体上盖(7)之间固定连接有上盖密封圈(19)。