[实用新型]一种稳定气流场的抽气装置及LPCVD管式反应器

权利要求书

1.一种稳定气流场的抽气装置，应用在LPCVD管式反应器上，LPCVD管式反应器内设有工艺区，其特征在于，所述抽气装置包括主抽气部和至少一个次抽气部；

所述主抽气部位于工艺区的一端，所述至少一个次抽气部位于工艺区的另一端。

2.根据权利要求1所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述次抽气部包括插入所述LPCVD管式反应器内的次抽气管；所述抽气管连接有负压源。

3.根据权利要求2所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述负压源为泵体或所述主抽气部的负压管路。

4.根据权利要求3所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述次抽气管与泵体或所述负压管路之间设有可调开度的控制阀。

5.根据权利要求3所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述泵体抽速可调。

6.根据权利要求2所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述次抽气管由所述LPCVD管式反应器的尾部插入LPCVD管式反应器内。

7.根据权利要求1所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述LPCVD管式反应器设有用于将炉盖和炉身连接密封的连接结构；

所述连接结构设有内部孔道，所述内部孔道设有与所述LPCVD管式反应器内连通的气口；

所述次抽气部包括位于LPCVD管式反应器外的次抽气管，所述次抽气管的一端与所述内部孔道连通，另一端连接有负压源。

8.根据权利要求1所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述主抽气部包括主抽气管，所述主抽气管穿过所述LPCVD管式反应器的尾部延伸至首端。

9.根据权利要求8所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述次抽气部为设置在所述主抽气管上的至少一个开孔。

10.根据权利要求9所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述主抽气管与所述LPCVD管式反应器的首端端盖的距离为5cm-60cm。

11.根据权利要求1-10中任一项所述的稳定气流场的抽气装置，其特征在于，所述次抽气部的抽气量为LPCVD管式反应器的总抽气量的5％-40％。

12.一种LPCVD管式反应器，其特征在于，包括如权利要求1-11中任一项所述的稳定气流场的抽气装置。