[实用新型]一种晶圆自动清洁装置有效

专利信息
申请号: 202222970938.9 申请日: 2022-11-08
公开(公告)号: CN219350152U 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 梅雪军;钱伟 申请(专利权)人: 海太半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B08B7/00
代理公司: 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 代理人: 吴红霞
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种晶圆自动清洁装置,其特征在于,包括:

风箱(1),所述风箱(1)外侧箱体上设置有限位固定装置(9),通过限位固定装置(9)将清洁装置安装在工作台上,所述风箱(1)内竖直设置有一号挡板(3)将风箱(1)箱体分成前后容积不等的两个箱体,所述一号挡板(3)一侧容积较大的一号箱体(10)内设置有离子风制造装置(5),另一容积较小的二号箱体(11)内设置有排风结构(8),所述排风结构(8)内的送风口(802)外连接有空气泵(806);

清洁腔(2),所述清洁腔(2)设置在风箱(1)上方,所述清洁腔(2)与风箱(1)间水平设有二号挡板(4),清洁腔(2)顶部设有密封盖板(12);

进料口(6),所述进料口(6)设置在清洁腔(2)远离排风结构(8)方向上;

风导装置(7),所述风导装置(7)设置在清洁腔(2)靠近离子风制造装置(5)轴向的两端上。

2.根据权利要求1所述的晶圆自动清洁装置,其特征在于,所述离子风制造装置(5)包括:

控制器(501),所述控制器(501)设置在风箱(1)底部,所述控制器(501)中设有马达带动安装在控制器(501)上方的风扇(502)转动;

风扇(502),所述风扇(502)设置在控制器(501)上方,与下方马达中的转轴相连;

离子棒(503),所述离子棒(503)设置在风箱(1)底部位于控制器(501)的前方靠近空气泵(806)所在的方向,所述离子棒(503)产生带有正负电荷的气流,混合风扇(502)产生的气流传递至上方清洁腔(2)内。

3.根据权利要求2所述的晶圆自动清洁装置,其特征在于,所述风导装置(7)包括:

一号Z轴导风口(701),所述一号Z轴导风口(701)开设在二号挡板(4)上,位于风扇(502)出风口的正上方;

二号Z轴导风口(702),所述一号Z轴导风口(701)开设在二号挡板(4)上,位于离子棒(503)出风口的正上方;

X轴风扇(703),所述X轴风扇(703)设置在清洁腔(2)的靠近进料口(6)左右两端的腔体内侧壁上,X轴风扇(703)的出风方向与一号Z轴导风口(701)和二号Z轴导风口(702)的出风方向垂直且相交。

4.根据权利要求3所述的晶圆自动清洁装置,其特征在于,所述排风结构(8)包括:

风槽(801),所述风槽(801)设置在一号挡板(3)右侧,所述风槽(801)靠近离子风制造装置(5)方向的槽壁(807)与一号挡板(3)相连,所述风槽(801)远离离子风制造装置(5)的一端设置有延长线相交的一对斜壁(804);

送风口(802),所述送风口(802)设有一对,分别设置在一对斜壁(804)上,所述送风口(802)通过排气软管(805)与后方空气泵(806)相连,通过空气泵(806)把清洁腔(2)内混合离子风抽离;

出风口(803),所述出风口(803)设有两对,两对所述出风口(803)分别设置在清洁腔(2)远离进料口的前端壁垒上,前端呈梯型设置,所述出风口(803)沿风箱(1)中轴线对称设置辅助出风口(803)排风。

5.根据权利要求4所述的晶圆自动清洁装置,其特征在于,所述限位固定装置(9)包括:

纵向固定装置(901),所述纵向固定装置(901)通过松紧限位螺栓(902)连接L型固定块(903)固定在风箱(1)外侧出风口下方,卡设在下方机械的工作台的台阶面上;

横向限位装置(904),所述横向限位装置(904)设有两道,所述横向限位装置(904)设置在风箱(1)平行于产品进出方向的侧壁上,通过限位槽(905)嵌入工作台的定位导轨中进行限位。

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