[实用新型]一种自动化硅片清洗机

说明书

本实用新型公开了一种自动化硅片清洗机，包括：清洁台，清洁台的中部开设有清洁池，还包括：入料机构，其包括设置在清洁池上方的U型框、以及与U型框相卡接的储料框，且储料框的上端通过挂架与U型框相卡接，U型框的两侧通过支撑杆与清洁台转动连接；自动送料机构，其包括与U型框平行设置的送料杆、以及设置在挂架两侧的推送机构，推送机构的输出端通过卡接板与挂架相卡接；本实用新型通过将装载有硅片的储料框通过挂架卡接在U型框上，通过转动U型框两侧的支撑杆，带动储料框重心下移上移和，便于控制硅片入料清洁和出料的目的，位于挂架两侧的推送机构，且卡接板与挂架卡接，能够推送挂架稳定移动。

技术领域

本实用新型涉及硅片清洁技术领域，特别涉及一种自动化硅片清洗机。

背景技术

在硅片加工与半导体器件的加工过程中，有许多涉及硅片清洗的工艺，特别是硅片研磨过程与研磨液摩擦会沉积许多砂料，不容易清洗干净。而且研磨液是循环使用，未被过滤的残余物会随着研磨液循环使用，会残留于硅片表面。化学机械抛光过程中，由于硅片与抛光浆料的化学反应以及抛光垫与硅片的摩擦，会生成研磨残余物和抛光垫渣滓残余物，当抛光浆料被循环使用时，未被过滤的残余物也会随着抛光浆料一起被循环使用，该残余物就会聚积于抛光垫表面。同时抛光浆料都是循环使用，再次使用研磨液和受污染的抛光垫进行硅片加工时，硅片表面就会被粘带有残余物颗粒的抛光浆料所污染，形成硅片表面的颗粒杂质。总之，在研磨和抛光之后的硅片表面会有许多残留的固体微颗粒杂质，在进入下一道加工工序前必须进行彻底的清洗去污。

将研磨或者抛光后的硅片放置到特定的清洁液中，通过超声波清洁组件对硅片进行清洁处理，操作人员需要将硅片放置到储存架中，然后将储存架逐个放置到清洁液中进行清洁，整体人工操作，导致清洁效率较低，影响生产效率。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种自动化硅片清洗机，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种自动化硅片清洗机，包括：清洁台，清洁台的中部开设有清洁池，清洁池内连接有循环系统，清洁池中安装有超声波清洁组件；还包括：

入料机构，其包括设置在清洁池上方的U型框、以及与U型框相卡接的储料框，且储料框的上端通过挂架与U型框相卡接，U型框的两侧通过支撑杆与清洁台转动连接；

自动送料机构，其包括与U型框平行设置的送料杆、以及设置在挂架两侧的推送机构，推送机构的输出端通过卡接板与挂架相卡接。

优选的，支撑杆的一端通过齿轮组连接有驱动电机。

优选的，挂架的上端一侧靠近U型框的一侧开设有挂料口，挂架的另一侧下端开设有送料口，且送料杆位于送料口的一侧。

优选的，推送机构包括位于挂架两侧的送料气缸和回料气缸，送料气缸安装在挂架远离挂料口的一侧，回料气缸安装在挂架远离送料口的一侧。

优选的，送料气缸和回料气缸的输出端均固定连接有卡接板，卡接板通过销杆与挂架相卡接。

优选的，U型框与挂架对应位置开设有环形凹槽，挂料口和送料口的顶部外侧设置有限位凸块。

优选的，循环系统包括循环管道，循环管道的中部安装有循环泵，循环管道的输入端与清洁池的底部相连通，循环管道的输出端与清洁池的上端相连通。

优选的，储料框上竖直设置有多个平行的卡槽。

与传统技术相比，本实用新型产生的有益效果是：

1、该自动化硅片清洗机，通过将装载有硅片的储料框通过挂架卡接在U型框上，通过转动U型框两侧的支撑杆，会带动U型框转动，从而带动储料框重心下移，将储料框置于清洁台中的清洁液中，并通过再次旋转支撑杆，可带动U型框重心上移，将储料框抬升，便于控制入料清洁和出料的目的。