[实用新型]一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备

权利要求书

1.一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备，其特征在于：包括上反应机构及下反应机构；

所述上反应机构包括上反应仓（1），上反应仓（1）内部设置有若干一级反应腔（2），上反应仓（1）在任意一个一级反应腔（2）的顶端均设置有盖板（5），盖板（5）上表面各自设置有第一电机（3）及若干个第一投料口（6），第一电机（3）通过第一主轴（7）各自连接一个第一搅拌器（4），第一搅拌器（4）设置于对应的一级反应腔（2）内，上反应仓（1）内、任意一个一级反应腔（2）的外周均布设有第一气管（8），上反应仓（1）在任意一级反应腔（2）的底部各自设置有下料口（9），下料口（9）内设置有阀门；

下反应机构包括下反应仓（10），下反应仓（10）内部设置有一个二级反应腔（11），下反应仓（10）顶端通过法兰与上反应仓（1）底部相连，一级反应腔（2）均通过下料口（9）与下反应仓（10）内部的二级反应腔（11）连通，下反应仓（10）内部且位于二级反应腔（11）的外围设置有第二气管（12），下反应仓（10）内在二级反应腔（11）的外周布设有第二气管（12），出料口（15）连接有阀门，上反应仓（1）顶部设置有一个第二电机（13），第二电机（13）的输出轴与一个连杆（16）的顶端相连，连杆（16）向下穿过上反应仓（1）且底部通过联轴器与一个第二主轴（17）相连，第二主轴（17）安装有第二搅拌器（14），第二搅拌器（14）设置于二级反应腔（11）内，下反应仓（10）侧面还设置有第二投料口（18），第二投料口（18）与二级反应腔（11）连通。

2.根据权利要求1所述的一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备，其特征在于：任意一个第一气管（8）的两端各自连接有一个第一进气口（19）及一个第一出气口（20），第一进气口（19）及第一出气口（20）均设置在上反应仓（1）的外壁上。

3.根据权利要求1所述的一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备，其特征在于：所述下反应仓（10）外侧设置有一个第二进气口（21）及一个第二出气口（22），第二进气口（21）及第二出气口（22）分别与第二气管（12）的两端相连。

4.根据权利要求1所述的一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备，其特征在于：所述上反应仓（1）外侧且对应每个一级反应腔（2）处、下反应仓（10）外侧且对应二级反应腔（11）处均设置有温度计连接口及压力表连接口。

5.根据权利要求1所述的一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备，其特征在于：所述上反应仓（1）外表面设置有吊耳（23）。

6.根据权利要求1所述的一种非离子有机硅表面活性剂生产用多层反应设备，其特征在于：所述下反应仓（10）下表面设置有若干支撑脚（24）。