[实用新型]激光沉积镀膜设备有效
申请号: | 202223294780.4 | 申请日: | 2022-12-08 |
公开(公告)号: | CN219044963U | 公开(公告)日: | 2023-05-19 |
发明(设计)人: | 李炳坤;张晓军;夏慧 | 申请(专利权)人: | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28;C23C14/54 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 林明校 |
地址: | 518131 广东省深圳市龙华区民*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 沉积 镀膜 设备 | ||
本实用新型公开了一种激光沉积镀膜设备,该激光沉积镀膜设备包括:壳体,壳体内形成有镀膜腔,壳体上设置有分别与镀膜腔连通的第一视窗部以及第二视窗部,第一视窗部以及第二视窗部隔着镀膜腔对置;激光器,设置在镀膜腔的外部,并经由第一视窗部朝向镀膜腔的内部发射激光束;靶座,设置在镀膜腔的镀膜区域内,可沿朝向与其对置的基台靠近或者远离的方向被驱动,在靶座沿靠近基台的方向被驱动时,从激光器发射的激光束可照射到位于靶座上的靶材上,在靶座沿远离基台的方向被驱动时,从激光器发射的激光束可穿过第二视窗部并到达放置在第二视窗部的外侧的能量计。本实用新型的激光沉积镀膜设备能够更加容易地检测激光的能量,并且结构简单。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,尤其涉及激光沉积镀膜设备。
背景技术
激光沉积镀膜设备作为一种新型的镀膜设备,具备广泛的应用,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。在激光沉积镀膜设备中,从激光器发射出来的激光通过激光视窗部进入镀膜腔内,并对靶材进行炮轰,从而使靶材料蒸发甚至电离从而向基底运动,由此形成薄膜材料。
然而,在实际镀膜的过程中,由于会有离子等羽辉扩散到激光视窗部法兰,并沉积在由于激光视窗部上。这可能导致降低视窗部的激光透过率,造成射入镀膜腔内的激光能量的衰减,从而导致无法制备一些需要高能量密度生产的膜。
为此,需要确保射入镀膜腔内、并到达靶材的激光能量符合工艺的要求。针对于此,现有技术当中,有提出了在镀膜腔的入射口上安装导光壳,并通过驱动部驱动反光镜伸入到导光壳内以改变激光的传输路径,并在外部工作台上放置能量计,从而进行能量检测技术方案。但是这种技术方案同时伴随着零部件的增加,使结构复杂化。
实用新型内容
本实用新型旨在至少一定程度上解决现有技术问题之一。为此,本实用新型提出了一种激光沉积镀膜设备,能够更加容易地检测激光的能量,并且结构简单。
根据本实用新型一方面的激光沉积镀膜设备,包括:壳体,所述壳体内形成有镀膜腔,所述壳体上设置有分别与所述镀膜腔连通的第一视窗部以及第二视窗部,所述第一视窗部以及所述第二视窗部隔着所述镀膜腔对置;激光器,设置在所述镀膜腔的外部,并经由所述第一视窗部朝向所述镀膜腔的内部发射激光束;靶座,设置在所述镀膜腔的镀膜区域内,可沿朝向与其对置的基台靠近或者远离的方向被驱动,在所述靶座沿靠近所述基台的方向被驱动时,从所述激光器发射的激光束可照射到位于所述靶座上的靶材上,在所述靶座沿远离所述基台的方向被驱动时,从所述激光器发射的所述激光束可穿过所述第二视窗部并到达放置在所述第二视窗部的外侧的能量计。
根据本实用新型的激光沉积镀膜设备,具有如下有益效果:能够更加容易地检测激光的能量,并且结构简单。
在一些实施方式中,所述靶座在所述镀膜腔内,在所述第一视窗部以及所述第二视窗部之间,位于更靠所述第一视窗部的一侧。
在一些实施方式中,所述镀膜腔内形成有容置腔,所述容置腔与所述镀膜区域连通,在所述靶座沿远离所述基台的方向被驱动时,所述靶座可缩回到所述容置腔内。
在一些实施方式中,所述第一视窗部设置在所述壳体的一侧的上方,所述第二视窗部设置在所述壳体的另一侧的下方。
在一些实施方式中,所述第一视窗部的轴心和所述第二视窗部的轴心同轴。
在一些实施方式中,所述第二视窗部包括:中空的连接座,所述连接座设置在所述壳体的另一侧的下方,所述连接座的位于轴向的一端的第一端部与所述镀膜腔连通;第一透光件,安装在所述连接座的位于轴向的另一端的第二端部上。
在一些实施方式中,还包括遮挡件,所述遮挡件设置在所述镀膜腔内,可被驱动以使所述第二视窗部的至少部分相对于所述镀膜区域被阻挡,或者使所述第二视窗部与所述镀膜区域相对。
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