[实用新型]用于PVD镀膜的遮蔽装置

说明书

一种用于PVD镀膜的遮蔽装置，包括：抵推组件，具有可上下浮动的抵推斜面；承载组件，可转动地插设于抵推组件并设有承载抵持件；遮蔽组件，套设于承载组件并与承载组件滑动连接；及承托组件，包括：承托连接件，设于遮蔽组件和抵推组件之间并与承载组件连接；承托件，穿设于承托连接件并与承托连接件转动连接。承托件在顺时针和逆时针中的一个方向周向转动时保持遮蔽组件未遮蔽状态，镀膜机构对周侧中央主面和周侧边缘弧面进行镀膜，承托件在另一个方向周向转动时松脱遮蔽组件，遮蔽组件遮蔽周侧中央主面，镀膜机构对周侧边缘弧面再次镀膜，使得再次镀膜后周侧边缘弧面所镀的膜层与周侧中央主面所镀的膜层厚度及完整度相一致，提高镀膜精度。

技术领域

本实用新型涉及PVD技术领域，尤其涉及一种用于PVD镀膜的遮蔽装置。

背景技术

如今，通常会使用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术，在工件表面沉积具有某种特殊功能的薄膜，以提高工件的性能，例如：耐磨性、耐腐蚀性等。

由于一些工件的周侧具有沿轴向相连接的边缘弧面结构和中央主面结构，然而由于镀膜机构相对于中央主面结构和相对于边缘弧面结构两者的镀膜角度的差异，因此镀膜机构对工件的周侧进行镀膜时，中央主面结构所镀膜层均匀且完整，能够达到镀膜标准，而弧形结构所镀膜层不同位置厚度不均且部分位置未镀膜，达不到镀膜标准，降低了整个工件周侧的镀膜精度。

实用新型内容

鉴于上述状况，有必要提供一种用于PVD镀膜的遮蔽装置，以提高镀膜精度。

本申请实施例提供一种用于PVD镀膜的遮蔽装置，包括：抵推组件，具有一可上下浮动的抵推斜面；承载组件，可转动地插设于所述抵推组件并设有承载抵持件，用以承载工件；遮蔽组件，套设于所述承载组件并与所述承载组件滑动连接，用以遮蔽所述工件的周侧中央主面；及承托组件，包括：承托连接件，设于所述遮蔽组件和所述抵推组件之间并与所述承载组件连接，所述承托连接件在所述承载组件的带动下顺时针或逆时针沿所述承载组件的周向进行周向转动；承托件，穿设于所述承托连接件并与所述承托连接件转动连接，所述承托件可跟随所述承托连接件沿顺时针和逆时针中的一个方向周向转动，并在抵接于所述抵推斜面时使所述抵推斜面上浮以保持所述遮蔽组件未遮蔽所述工件的周侧中央主面的状态；所述承托件还可跟随所述承托连接件沿所述顺时针和逆时针中的另一个方向周向转动，并在抵接于所述抵推斜面时被不发生上浮的所述抵推斜面抵推而相对于所述承托连接件旋转，以使所述遮蔽组件脱离所述承托件而下落至所述承载抵持件来遮蔽所述工件的周侧中央主面。

上述用于PVD镀膜的遮蔽装置的作业时，首先，承载组件承载工件，接着承载组件通过承载抵持件和承托连接件分别带动遮蔽组件和承托件例如顺时针周向转动，抵推斜面在被承托件抵接时，抵推斜面上浮，承托件不与遮蔽组件脱离，以保持遮蔽组件未遮蔽工件的周侧中央主面的状态，此时工件的周侧中央主面和周侧边缘弧面均未被遮蔽，镀膜机构镀膜至周侧中央主面和周侧边缘弧面；然后，承载组件通过承托连接件带动承托件例如逆时针周向转动，承托件与抵推斜面抵接并在抵推斜面的抵推下相对于承托连接件发生旋转，使得承托件脱离遮蔽组件，以使遮蔽组件下落至承载抵持件，进而使遮蔽组件遮挡工件的周侧中央主面，镀膜机构只对周侧边缘弧面进行再次镀膜，以使周侧边缘弧面所镀的膜层均匀且完整；最后，将完成镀膜作业的工件从承载组件上取下，并进行收集。如此，承载组件通过承托连接件带动承托件正反方向周向转动，当承托件在顺时针或逆时针中的一个方向周向转动时保持遮蔽组件未遮蔽状态，镀膜机构对周侧中央主面和周侧边缘弧面进行镀膜，当承托件在顺时针和逆时针中另一个方向周向转动时松脱遮蔽组件，遮蔽组件遮蔽周侧中央主面，镀膜机构对周侧边缘弧面进行再次镀膜，使得再次镀膜后周侧边缘弧面所镀的膜层与周侧中央主面所镀的膜层厚度及完整度相一致，提高镀膜精度。