[实用新型]U型立式多功能双面镀膜生产线

权利要求书

1.U型立式多功能双面镀膜生产线，其特征在于：包括PVD连续真空生产线（1）和CVD连续真空生产线（2），所述PVD连续真空生产线（1）和CVD连续真空生产线（2）平行设置，PVD连续真空生产线（1）的末端与CVD连续真空生产线（2）的首端通过真空平移室（3）衔接，所述真空平移室（3）用于将基片从PVD连续真空生产线（1）转移至CVD连续真空生产线（2），以及真空度切换，所述真空平移室（3）与PVD连续真空生产线（1）、CVD连续真空生产线（2）对接腔室的连接处分别设置有用于封闭进出口的门阀，且真空平移室（3）通过真空管道连接真空抽气系统（11），在所述真空平移室（3）内设置有用于转移基片的平移机构。

2.如权利要求1所述的U型立式多功能双面镀膜生产线，其特征在于：所述PVD连续真空生产线（1）依次包括进片室（4）、缓冲室（5）、过渡室（6）、PVD工艺室（7）、气氛隔离室（8）；所述CVD连续真空生产线（2）依次包括气氛隔离室（8）、CVD工艺室（9）、过渡室（6）、缓冲室（5）、出片室（10），PVD连续真空生产线（1）和CVD连续真空生产线（2）运行方向相反，并采用独立的真空抽气系统。

3.如权利要求1所述的U型立式多功能双面镀膜生产线，其特征在于：所述真空平移室（3）整体呈方形，在真空平移室（3）同侧侧壁上开设有基片入口（3-1）和基片出口（3-2），所述平移机构包括平行固定在真空平移室（3）底板上的平移导轨（3-3），与平移导轨（3-3）配合的基片框架传输支架（3-4），以及驱动基片框架传输支架（3-4）沿平移导轨（3-3）移动的平移驱动装置，所述基片框架传输支架（3-4）上端固定有磁导向装置（3-5），在基片框架传输支架（3-4）下部对应所述磁导向装置（3-5）设置有多组输送滚轮（3-6），所述多组输送滚轮（3-6）与固定在基片框架传输支架（3-4）上的真空电机（3-7）传动连接，真空电机（3-7）驱动多组输送滚轮（3-6）转动并在磁导向装置（3-5）配合下将基片框架引入或送出基片框架传输支架（3-4）。

4.如权利要求3所述的U型立式多功能双面镀膜生产线，其特征在于：所述平移驱动装置包括伺服马达（3-8）、同步带主动轮（3-9）、同步带从动轮（3-10）、同步带（3-11），所述同步带主动轮（3-9）、同步带从动轮（3-10）分别设置在真空平移室（3）底板上与基片入口（3-1）和基片出口（3-2）对应的两侧，所述同步带（3-11）绕在同步带主动轮（3-9）、同步带从动轮（3-10）之间，所述基片框架传输支架（3-4）底部与同步带（3-11）固定连接，所述伺服马达（3-8）固定安装真空平移室（3）底板下方，伺服马达（3-8）输出端延伸至真空平移室（3）内并通过磁流体密封装置与真空平移室（3）密封连接，伺服马达（3-8）输出端固定连接有第一伞齿轮（3-12），所述同步带主动轮（3-9）同轴固定连接有与所述第一伞齿轮（3-12）啮合的第二伞齿轮（3-13）。

5.如权利要求4所述的U型立式多功能双面镀膜生产线，其特征在于：在真空平移室（3）底板上对应基片入口（3-1）和基片出口（3-2）分别设置有到位传感器（3-14）。

6.如权利要求3所述的U型立式多功能双面镀膜生产线，其特征在于：在所述基片框架传输支架（3-4）底部安装有与所述平移导轨（3-3）配合的导轮（3-15）。