[发明专利]用于映射平挤模头的唇调节螺栓的系统和方法

权利要求书

1.一种平挤模头的模头螺栓控制系统，所述系统包括：

处理器(122)；以及

耦合到所述处理器(122)的存储器(126)，其中，所述处理器(122)执行存储在所述存储器(126)中的多个模块(128)，并且其中，所述多个模块(128)包括：

校准模块(136)，其校准薄膜/片材(214)的零线校准厚度剖面；

厚度测量模块(130)，其测量从所述平挤模头中挤出的薄膜/片材(214)在多个唇调节螺栓(206a、……、206n)的至少一个唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)上的厚度变化，并且记录所述薄膜/片材(214)上的模头螺栓影响区域，所述模头螺栓影响区域对应于所述薄膜/片材(214)在相应的唇调节螺栓位置(206a、……、206n)处的测得厚度变化；

其特征在于，

模头螺栓控制模块(132)，其基于所述模头螺栓影响区域来计算所述至少一个唇调节螺栓(206a、……、206n)的电压校正因子，其中，所述电压校正因子是使用所述薄膜/片材(214)在所述多个唇调节螺栓(206a、……、206n)的至少一个唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)处的测得厚度变化和在所述多个唇调节螺栓(206a、……、206n)的平均唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)处的厚度变化来计算的；以及

模头螺栓致动模块(132)，其通过应用所述电压校正因子以将所述薄膜/片材(214)在每个唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)处的厚度变化校正为零线校准厚度来致动所述至少一个唇调节螺栓(206a、……、206n)。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个唇调节螺栓(206a、……、206n)的温度改变是通过基于所述电压校正因子的加热和冷却来实现的。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述薄膜/片材(214)的厚度变化是在所述薄膜/片材(214)在每个唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)处的整个宽度上测量的。

4.根据权利要求2所述的系统，其中，所述至少一个唇调节螺栓(206a、……、206n)中的每一个的致动具有对所述模头螺栓施加电压的加热元件。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述薄膜/片材(214)上的模头螺栓影响区域是通过所述至少一个唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)与至少第二唇调节螺栓位置(206bp、……、206np)的重叠影响区域来实现的。

6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述模头螺栓影响区域对应于所述薄膜/片材(214)的区域上由于所述薄膜/片材(214)的对应区域上的至少一个唇调节螺栓(206a、……、206n)的影响造成的测得厚度变化。

7.根据权利要求1所述的系统，多个电压校正因子是对应于所述多个唇调节螺栓(206a、……、206n)中的每一个来计算的，并且其中，所述多个电压校正因子中的每一个被应用以致动对应唇调节螺栓位置(206ap、……、206n)处的对应唇调节螺栓(206a、……、206n)，从而使厚度在所述薄膜/片材(214)的整个宽度上变化。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述模头螺栓致动模块(134)通过对每个唇调节螺栓(206a、……、206n)应用所述电压校正因子以用于将所述薄膜/片材(214)的厚度剖面校正为每个唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)处的零线校准厚度剖面来致动相应的唇调节螺栓位置(206ap、……、206np)处的至少一个唇调节螺栓(206a、……、206n)。

9.根据权利要求1所述的系统，还包括：剖面模块(140)，其创建所述薄膜/片材(214)的校正剖面来记录多个电压校正因子，其中，所述校正剖面被存储在所述存储器(126)中并在测量所述薄膜/片材(214)的厚度变化时调用。