[发明专利]半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置有效

专利信息
申请号: 202310010381.0 申请日: 2023-01-05
公开(公告)号: CN115672850B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 唐占银;高赛魁 申请(专利权)人: 无锡卓瓷科技有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B3/08;B08B13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 半导体 刻蚀 备用 气体 喷射器 清洗 装置
【权利要求书】:

1.半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:包括储液箱(1)、位于储液箱(1)上方的冲洗箱(2)、位于储液箱(1)和冲洗箱(2)下方的泄漏箱(3)、位于冲洗箱(2)内部的出液箱(4)、分流管(5)、球阀(6)、夹具(7)和位于泄漏箱(3)内部的水泵(8)、过滤器(9);

所述储液箱(1)与水泵(8)的进口端相连通,所述水泵(8)的出口端与过滤器(9)的进口端相连通,所述过滤器(9)的出口端与出液箱(4)的进口端相连通,所述分流管(5)的进口端与出液箱(4)远离出液箱(4)的进口端的一侧相连通,所述分流管(5)的出口端固定设有球阀(6),所述夹具(7)内部固定设有一个气体喷射器(10),所述夹具(7)固定位于球阀(6)的出口端,所述冲洗箱(2)出口端与储液箱(1)相连通;

所述夹具(7)包括呈圆筒状的第一固定件(11)、第二固定件(12)和第三固定件(13),所述第二固定件(12)的外径与第三固定件(13)的外径一致,所述第三固定件(13)一端与球阀(6)的出口端固定连接,所述气体喷射器(10)固定位于第二固定件(12)内部,所述第二固定件(12)位于的第一固定件(11)的内部,所述第一固定件(11)与第三固定件(13)固定连接,所述第三固定件(13)远离球阀(6)出口端的一端与第二固定件(12)相抵。

2.根据权利要求1所述的半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:所述球阀(6)的出口端处固定设有连接管(14),所述连接管(14)与第三固定件(13)固定连接。

3.根据权利要求2所述的半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:第三固定件(13)沿轴向开设有第一螺纹穿孔,所述连接管(14)的出口端设有第一外螺纹,所述第三固定件(13)与连接管(14)的出口端螺纹连接。

4.根据权利要求3所述的半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:所述第一固定件(11)沿轴向开设有第一圆形穿孔,所述第一固定件(11)靠近连接管(14)的一端开设有第一圆形放置槽,所述第一圆形放置槽与第一圆形穿孔同圆心,所述第一圆形放置槽与第一圆形穿孔形成阶梯,所述第二固定件(12)间隙配合插接于第一圆形放置槽内,所述第一圆形放置槽内部开设有第一内螺纹,所述第三固定件(13)外侧壁设有第二外螺纹,所述第一固定件(11)与第三固定件(13)螺纹连接。

5.根据权利要求4所述的半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:所述第二固定件(12)沿轴向方向开设有第二圆形穿孔,所述第二固定件(12)靠近第三固定件(13)的一端开设有第二圆形放置槽,所述气体喷射器(10)间隙配合插接于第二圆形放置槽内。

6.根据权利要求5所述的半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:所述第一固定件(11)外侧壁远离第三固定件(13)的一侧固定套设有三个环状限位块(15),所述第一固定件(11)的侧壁卡接有三个限位板(16),三个所述限位板(16)与冲洗箱(2)固定连接,每个所述限位板(16)均开设有与第一固定件(11)的外径一致的半圆形卡槽。

7.根据权利要求6所述的半导体刻蚀设备用气体喷射器的清洗装置,其特征在于:所述第三固定件(13)的外侧壁远离第一固定件(11)的一侧固定套设有六边形旋转块(17)。

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