[发明专利]一种原位微区磷钇矿Lu-Hf定年方法有效
申请号: | 202310028565.X | 申请日: | 2023-01-09 |
公开(公告)号: | CN115825212B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 吴石头;杨岳衡;王浩;许蕾;黄超;谢烈文 | 申请(专利权)人: | 中国科学院地质与地球物理研究所 |
主分类号: | G01N27/626 | 分类号: | G01N27/626;G01N1/28;G01N1/44 |
代理公司: | 成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241 | 代理人: | 张淑枝 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原位 微区磷钇矿 lu hf 方法 | ||
本发明提供一种原位微区磷钇矿Lu‑Hf定年方法,对目标采样点进行点剥蚀、电离,并测得离子信号数据;ICP‑MS/MS仪器在三重四级杆模式下,采用辅助气氮气对仪器进行增敏,采用纯氨气作为反应气体与supgt;176/supgt;Hf反应,使之与supgt;176/supgt;Lu、supgt;176/supgt;Yb的在线分离,采集离子信号强度;得到元素信号数据后,计算出supgt;176/supgt;Lu/supgt;176/supgt;Hf和supgt;176/supgt;Hf/supgt;177/supgt;Hf比值,进行仪器漂移校正;对supgt;(176+82)/supgt;Hf的信号进行扣除;对磷钇矿标准物质和样品进行普通Hf扣除;对未知样品的supgt;176/supgt;Hf/supgt;176/supgt;Lu和supgt;176/supgt;Hf/supgt;176/supgt;Hf比值进行校正;计算出磷钇矿Lu‑Hf年龄数据。本发明克服NIST SRM 610与磷钇矿之间的基体效应,实现了原位微区磷钇矿Lu‑Hf的准确定年。克服了现有技术空间分辨率差、定年成功率低、周期长等缺点。
技术领域
本发明提供一种原位微区磷灰石Lu-Hf定年方法,属于地质年代确定技术领域。
背景技术
磷钇矿化学为Y[PO4],理论成分:含钇和铒的氧化物61.4%、五氧化二磷38.6%,主要产于花岗岩、花岗伟晶岩、碱性花岗岩、碱性花岗伟晶岩及有关矿床中。因化学性质稳定,通常作为定年对象,广泛应用于岩浆岩和沉积岩的地质年代学中。磷钇矿中通常富含U和Th、低普通Pb,同时U-Th-Pb封闭温度高(850℃),因此是良好的U-Th-Pb定年对象。目前已成功开发了同位素稀释-热电离质谱(isotope dilution-thermal ionization massspectrometry,简称为ID-TIMS)、离子探针(secondary ion mass spectroscopy,简称为SIMS)和激光剥蚀电感耦合等离子体质谱仪(laser ablation inductively coupledplasma mass spectrometry,简称为LA-ICP-MS)U-Pb定年技术,并广泛应用于各种地质环境中,但实际经常出现低U含量的热液磷钇矿,或者含Pb(如硫化物)包裹体的磷钇矿,这使得U-Pb定年成功率很低,甚至定年失败。
磷钇矿富含Lu,并不含或含有少量的Hf,这使得其具有Lu-Hf定年的潜力。当前Lu-Hf定年主要是采用ID-TIMS。该技术通过样品钻取、酸溶消解、分离纯化、上机测试等四步骤获取数据。ID-TIMS可提供高精度的数据质量,但该技术操作流程复杂,耗时长,获取的数量有限。作为一项整体分析技术,ID-TIMS的空间分辨率低,这使得其在对环带变化的样品分析时,具有很大的局限性。近年来激光剥蚀-三重四级杆-电感耦合等离子体技术(LA-ICP-MS/MS)快速发展,其具有空间分辨率高(μm级)、分析速度快(~2分钟/剥蚀点)和具有在线分离干扰元素的能力。目前基于LA-ICP-MS/MS分析技术已开发了出了原位微区Rb-Sr定年技术,通过采用氧气或六氟化硫作为反应气体,实现了高空间分辨率的Rb-Sr定年目标,然后这项技术在Lu-Hf定年领域尚未得到充分开发和利用。
发明内容
为了解决现有技术的上述问题,本发明提供一种原位微区磷钇矿Lu-Hf定年方法,采用LA-ICP-MS/MS仪器进行磷钇矿Lu-Hf定年,通过优化反应氨气/氦气比例、反应产物识别、干扰扣除,实现了原位微区磷钇矿Lu-Hf的准确定年。NIST SRM 610与磷钇矿之间具有基体效应,需采用基体匹配的标准物质进行校正才能获得准确的定年结果。
本发明的技术方案是:
一种原位微区磷钇矿Lu-Hf定年方法,包括以下步骤:
(1)对于磷钇矿样品或者含磷钇矿的岩石样品,先进行切割至合理的大小,制成环氧树脂样品靶(样品靶直径1英寸,厚度约5毫米),或普通光学薄片,以适应激光剥蚀样品室的大小;
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