[发明专利]数据处理方法、装置、电子设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202310029447.0 申请日: 2023-01-09
公开(公告)号: CN116126532A 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 王浩宇;孟令君 申请(专利权)人: 北京达佳互联信息技术有限公司
主分类号: G06F9/50 分类号: G06F9/50;G06F9/455
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 贾允
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 数据处理 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种数据处理方法,其特征在于,包括:

响应于预设互动业务的执行指令,确定第一对象在第一预设区域内的起始下落位置和所述第一对象对应的目标下落位置类型;所述第一预设区域为所述预设互动业务对应互动页面中的对象掉落渲染区域;

根据所述起始下落位置和所述目标下落位置类型,确定所述第一对象在所述第一预设区域中的目标下落位置和至少一个中间下落位置;

基于所述至少一个中间下落位置,分段构建所述起始下落位置至所述目标下落位置间的对象下落轨迹;

基于所述对象下落轨迹,在所述第一预设区域渲染所述第一对象从所述起始下落位置下落至所述目标下落位置的下落过程;

在所述第一对象下落至所述目标下落位置的情况下,在所述互动页面中第二预设区域渲染所述目标下落位置类型对应的第二对象的推送过程。

2.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述基于所述至少一个中间下落位置,分段构建所述起始下落位置至所述目标下落位置间的对象下落轨迹包括:

从所述起始下落位置、所述目标下落位置和所述至少一个中间下落位置中,确定多个路径节点对,任一路径节点对为以所述起始下落位置、所述目标下落位置和所述至少一个中间下落位置中任意两个相邻位置为路径节点的节点对;

基于所述任一路径节点对中两个路径节点间的相对位置关系,确定所述任一路径节点对对应的控制节点;

根据所述任一路径节点对和所述任一路径节点对对应的控制节点,生成所述任一路径节点对对应的二阶贝塞尔曲线;

对所述多个路径节点对对应的二阶贝塞尔曲线进行拼接处理,得到所述对象下落轨迹。

3.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述第一预设区域包括多行预设碰撞物和所述多行预设碰撞物对应的多行下落口,每行预设碰撞物中相邻两个预设碰撞物间有一个下落口,所述多行下落口为以最上方一行下落口中任一下落口为杨辉三角的第一行元素所在位置的几何排列;所述第一对象在所述第一预设区域中的目标行的上方水平移动,所述目标行为所述最上方一行下落口所在行;所述确定第一对象在第一预设区域内的起始下落位置包括:

确定所述执行指令触发时所述第一对象所在的当前位置;

将所述目标行中位于所述当前位置正下方的位置作为所述起始下落位置。

4.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述第一预设区域包括多行预设碰撞物和所述多行预设碰撞物对应的多行下落口,每行预设碰撞物中相邻两个预设碰撞物间有一个下落口,所述多行下落口为以最上方一行下落口中任一下落口为杨辉三角的第一行元素所在位置的几何排列;所述多行下落口中最下方一行下落口所在位置为多个预设下落位置,所述多个预设下落位置对应至少一种预设下落位置类型,每个预设下落位置对应所述至少一种预设下落位置类型中的一种预设下落位置类型,所述至少一种预设下落位置类型包括所述目标下落位置类型;

所述根据所述起始下落位置和所述目标下落位置类型,从所述第一预设区域中确定所述第一对象对应的目标下落位置和至少一个中间下落位置包括:

根据所述起始下落位置,从所述最上方一行下落口中确定起始下落口;

在所述多行预设碰撞物的碰撞约束下,基于所述起始下落口,从所述最下方一行下落口中确定所述目标下落位置类型对应的目标下落口,以及从中间行下落口中确定至少一个中间下落口,所述中间行下落口为所述多行下落口中位于所述最上方一行下落口和所述最下方一行下落口之间的至少一行下落口;

以所述起始下落位置为起点,基于最短路径约束条件,从每一路径下落口对应的预设碰撞物中确定所述每一路径下落口对应的目标碰撞点,所述每一路径下落口为所述目标下落口和所述至少一个中间下落口中的每一下落口;所述每一路径下落口对应的预设碰撞物为与所述每一路径下落口相邻的预设碰撞物;

将所述目标下落口对应的目标碰撞点所在位置作为所述目标下落位置;

将所述至少一个中间下落口对应的目标碰撞点所在位置作为所述至少一个中间下落位置。

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