[发明专利]测试半导体芯片闩锁效应放大倍数的方法在审
申请号: | 202310056798.0 | 申请日: | 2023-01-17 |
公开(公告)号: | CN115980550A | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 詹晖 | 申请(专利权)人: | 成都环宇芯科技有限公司 |
主分类号: | G01R31/28 | 分类号: | G01R31/28 |
代理公司: | 成都惠迪专利事务所(普通合伙) 51215 | 代理人: | 刘勋 |
地址: | 610041 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测试 半导体 芯片 效应 放大 倍数 方法 | ||
1.测试半导体芯片闩锁效应放大倍数的方法,其特征在于,包括下述步骤:
(1)对于紧邻PMOS-NMOS结构,将NMOS管的源端和衬底接GND,PMOS管的源端和阱电位接第一外部连接点,第一外部连接点接VCC,NMOS管的漏端和PMOS管的漏端接第二外部连接点;所述紧邻PMOS-NMOS结构包括PMOS管和NMOS管,所述PMOS管包括栅区以及设置于N阱内的源区和漏区;所述N阱嵌入P型掺杂区内;
(2)在第二外部连接点连接电流源;
(3)测量第一外部连接点的输入电流变化量△IVCC和第二外部连接点的输出电流变化量△Iout,通过下式计算闩锁效应放大倍数ß:
ß = △IVCC/△Iout
(4)增加第一外部连接点的输入电流或者第二外部连接点的输出电流,返回步骤(3),直到芯片烧毁,获得当前电流方向的放大倍数ß的数值曲线。
2.如权利要求1所述的测试半导体芯片闩锁效应放大倍数的方法,其特征在于,还包括步骤(5):
改变第二外部连接点所连接的电流源的电流方向,然后进入步骤(3)。
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