[发明专利]一种超疏水盖板结构及制备方法

权利要求书

1.一种超疏水盖板结构，其特征在于：包括基材、激光成型在所述基材表面的微结构、沉积在所述基材和微纳米结构表面的镀膜层及涂覆在所述镀膜层表面的疏水层，所述微纳米结构包括微米级的多个凸起。

2.根据权利要求1所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述多个凸起呈阵列布置在所述基材上。

3.根据权利要求2所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述凸起底部的长为a、宽为b，面积为S1；所述凸起顶部的长为c、宽为d，面积为S2；其中，0.5＜a：b＜2，0.5＜c：d＜2，2.0×10^-5mm²＜S₁＜3.0×10^-2mm²，1≤S1：S2≤2。

4.根据权利要求3所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述凸起之间的间距宽度为L，峰与峰的宽度为RSM，深度为RZ，其中，3μm＜L＜25μm，100μmRSM＜400μm，4μmRZ12μm。

5.根据权利要求1所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述镀膜层为SO₂膜层。

6.根据权利要求1所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述疏水层为全氟聚醚层。

7.根据权利要求1所述的超疏水盖板结构，其特征在于：所述基材为PET板材或玻璃。

8.根据权利要求1所述的超疏水盖板结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)采用飞秒激光器在基材上激光镭射形成微米级的多个凸起；

(2)在基材和多个凸起的表面磁控溅射形成镀膜层；

(3)在镀膜层的表面涂覆疏水层。

9.根据权利要求8所述的超疏水盖板结构的制备方法，其特征在于：步骤(1)中激光的功率在7～12KW，激光的扫描速度为100mm/s，激光扫描间距为30～200μm。

10.根据权利要求8所述的超疏水盖板结构的制备方法，其特征在于：步骤(2)中镀膜层为SO₂层，厚度为10～20nm。