[发明专利]一种超疏水盖板结构及制备方法

说明书

本发明公开了一种超疏水盖板结构及制备方法，其中超疏水盖板结构包括基材、激光成型在所述基材表面的微结构、沉积在所述基材和微纳米结构表面的镀膜层及涂覆在所述镀膜层表面的疏水层，所述微纳米结构包括微米级的多个凸起。本发明提供的超疏水盖板结构及制备方法，可以提高盖板表面水滴角和自清洁能力。

技术领域

本发明涉及盖板技术领域，特别涉及一种超疏水盖板结构及制备方法。

背景技术

玻璃盖板的适用范围领域相当广泛，比如电子屏，显示屏，车载玻璃等等，现有技术中，一般采用在玻璃盖板表面喷涂或蒸镀氟化物，来提高玻璃表面的水滴角提升顺滑度。但是上述工艺制得的玻璃盖板，表面水滴角维持在110°-120°之间，无法满足日益提升的客户需求。为了解决上述问题，本发明因此而来。

发明内容

本发明目的是提供一种超疏水盖板结构及制备方法，可提高盖板表面水滴角和自清洁能力。

基于上述问题，本发明提供的技术方案之一是：

一种超疏水盖板结构，包括基材、激光成型在所述基材表面的微结构、沉积在所述基材和微纳米结构表面的镀膜层及涂覆在所述镀膜层表面的疏水层，所述微纳米结构包括微米级的多个凸起。

在其中的一些实施方式中，所述多个凸起呈阵列布置在所述基材上。

在其中的一些实施方式中，所述凸起底部的长为a、宽为b，面积为S1；所述凸起顶部的长为c、宽为d，面积为S2；其中，0.5a：b＜2，0.5c：d＜2，2.0×10^-5mm²＜S₁＜3.0×10^-2mm²，1≤S1：S2≤2。

在其中的一些实施方式中，所述凸起之间的间距宽度为L，峰与峰的宽度为RSM，深度为RZ，其中，3μm＜L＜25μm，100μmRSM400μm，4μmRZ12μm。

在其中的一些实施方式中，所述镀膜层为SO₂膜层。

在其中的一些实施方式中，所述疏水层为全氟聚醚层。

在其中的一些实施方式中，所述基材为PET板材或玻璃。

基于上述问题，本发明提供的技术方案之二是：

上述的超疏水盖板结构的制备方法，包括以下步骤：

(1)采用飞秒激光器在基材上激光镭射形成微米级的多个凸起；

(2)在基材和多个凸起的表面磁控溅射形成镀膜层；

(3)在镀膜层的表面涂覆疏水层。

在其中的一些实施方式中，步骤(1)中激光的功率在7～12KW，激光的扫描速度为100mm/s，激光扫描间距为30～200μm。

在其中的一些实施方式中，步骤(2)中镀膜层为SO₂层，厚度为10～20nm。

与现有技术相比，本发明的优点是：

采用本发明的技术方案，在基材表面镭射形成微结构，然后在微结构表面沉积镀膜层，最后在镀膜层表面涂覆疏水层，该超疏水盖板结构可以提高盖板表面的水滴角和自清洁能力。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一种超疏水盖板结构实施例的结构示意图；