[发明专利]氯硅烷冷凝装置和氯硅烷回收系统在审

专利信息
申请号: 202310067651.1 申请日: 2023-02-06
公开(公告)号: CN116328345A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 陈奕峰;杨楠;范增涵 申请(专利权)人: 天合光能股份有限公司;天合光能(青海)晶硅有限公司
主分类号: B01D5/00 分类号: B01D5/00;C01B33/107
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 213000 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 硅烷 冷凝 装置 回收 系统
【说明书】:

发明提供一种氯硅烷冷凝装置和氯硅烷回收系统。氯硅烷冷凝装置用于冷凝来自上游工序的尾气中含有的氯硅烷。外壳的内空间依次划分为进气区域、冷凝区域和缓冲区域。外壳上对应于进气区域设置有尾气进口,尾气进口用于将尾气输入进气区域;外壳上对应缓冲区域设置有出液口。外壳上还设置有出气口。冷凝管设置于冷凝区域,用于将尾气中含有的氯硅烷冷凝成液态氯硅烷。出气口用于将尾气经过冷凝管后未凝结成液态的剩余气体排出。出液口用于将缓冲区域内的液态氯硅烷排出。尾气冷凝形成的液态氯硅烷能够在缓冲区域内积存,缓冲区域的容积被设置为能够避免出液口下液不畅,以避免出液口下液不畅。

技术领域

本发明涉及分离技术领域。具体地,涉及一种氯硅烷冷凝装置和氯硅烷回收系统。

背景技术

氯硅烷是生产高纯多晶硅的重要原料,目前多晶硅生产系统的还原工序、氢化工序、三氯氢硅合成工序、氯硅烷精馏提纯工序均会产生含氯硅烷的尾气,而国内外绝大多数厂家采用改良西门子法生产制备高纯多晶硅。

在改良西门子法制备多晶硅工艺中,还原炉会产生大量的副产物四氯化硅,四氯化硅目前通常通过冷氢化工艺进行转化。在冷氢化工艺中,流化床反应器产品气中含有微硅粉、H2、SiHCl3和SiCl4等组份,经除尘洗涤后,产品气以完全气相的形式进入依次连接的多个冷凝器中进行逐级冷凝,使产品气中的氯硅烷(SiHCl3和SiCl4)被冷却成液相,H2纯度达到99.5%以上进压缩机循环利用。其中,冷凝器的功能就是利用冷媒对含氯硅烷尾气进行降温,由于冷凝器连接有氯硅烷存储罐,冷凝后形成的液态氯硅烷直接通过冷凝器的出口进入氯硅烷存储罐。

但是,冷凝器与氯硅烷存储罐连接的管道经常会出现下液不畅的现象,使得冷凝后的液态氯硅烷大幅度增加。当冷凝后的液态氯硅烷大幅度增加时,使得冷凝后的大量液态氯硅烷容易积聚在冷凝器中,甚至导致液态氯硅烷被气相夹带到后续冷凝器中,增加后续冷凝器的换热负荷,以及降低冷凝器的换热效率

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种氯硅烷冷凝装置,以避免出液口下液不畅。

为实现本发明的目的而提供一种氯硅烷冷凝装置,用于冷凝来自上游工序的尾气中含有的氯硅烷,冷凝装置包括:外壳,外壳的内空间依次划分为进气区域、冷凝区域和缓冲区域;其中,外壳上对应于进气区域设置有尾气进口,尾气进口用于将尾气输入进气区域;外壳上对应缓冲区域设置有出液口;外壳上还设置有出气口;冷凝管,冷凝管设置于冷凝区域,冷凝管用于将尾气中含有的氯硅烷冷凝成液态氯硅烷;其中,出气口用于将尾气经过冷凝管后未凝结成液态的剩余气体排出;出液口用于将缓冲区域内的液态氯硅烷排出;尾气冷凝形成的液态氯硅烷能够在缓冲区域内积存,缓冲区域的容积被设置为能够避免出液口下液不畅。

进一步地,缓冲区域的容积大于进气区域的容积。

进一步地,外壳包括:上壳;下壳,下壳用于形成缓冲区域,下壳为自上向下递增的锥桶形。

进一步地,外壳包括:上壳;下壳,下壳用于形成缓冲区域,下壳为球形。

进一步地,外壳的内空间还划分有出气区域,外壳上对应出气区域设置有出气口;出气区域与进气区域并列设置,且进气区域和出气区域均设置于冷凝区域上方;冷凝管包括位于进气区域下方的第一管程和位于出气区域下方的第二管程,第一管程用于将进入进气区域的尾气中含有的氯硅烷冷凝成液态氯硅烷,第二管程用于将尾气经过第一管程后未凝结成液态的气体中含有的氯硅烷冷凝成液态氯硅烷。

进一步地,上壳用于形成进气区域、冷凝区域和出气区域。

进一步地,冷凝装置还包括:隔板,设置于上壳内,隔板用于分隔进气区域和出气区域。

进一步地,外壳上对应缓冲区域设置有出气口。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天合光能股份有限公司;天合光能(青海)晶硅有限公司,未经天合光能股份有限公司;天合光能(青海)晶硅有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310067651.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top