[发明专利]吸擦一体式擦头装置

说明书

本发明提供了一种吸擦一体式擦头装置，包括吸盘主体和吸盘芯，吸盘主体上表面设有用于容纳研磨液的第一环形凹槽，第一环形凹槽的底部设有第一研磨液排出孔，安装圆台的中心设有第一通气孔；吸盘芯安装在吸盘主体的下表面；吸盘芯具有与第一通气孔同轴连通的第二通气孔；吸盘芯的下端设有分气盘，沿分气盘周向均匀设有多个第一径向排气孔，第一径向排气孔与第二通气孔连通；还包括通气管路、研磨液管路、吹扫气管路、冲洗液管路。本发明可实现对陶瓷圆片的无接触装载和卸载，可以完成对陶瓷圆片的研磨、冲洗和吹扫，大大避免了陶瓷圆片划伤、损坏、报废、二次污染的问题，提高了工作效率，保证了陶瓷圆片的研磨效果和洁净度。

技术领域

本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及一种吸擦一体式擦头装置。

背景技术

在半导体领域的某些工艺中需要使用到带孔陶瓷圆片，而在陶瓷圆片的制备加工过程中，对陶瓷圆片的研磨和清洗是不可或缺的工序。根据加工要求使用激光打孔机在陶瓷圆片表面加工许多尺寸较小的孔，孔的形状为圆形或者不规则形状，孔的数量和位置均不确定。由于加工过程中产生的高温会导致孔的边缘处产生熔融物，不利于之后的加工使用，所以需要对孔边缘的熔融物进行研磨处理，且对其表面的洁净度有较高的要求。

陶瓷圆片表面带有不规则小孔、陶瓷圆片厚度薄、精密度高且易碎，因此应当选取合适的装卸方式及装卸装置，此外随着陶瓷圆片制造技术的发展，陶瓷圆片的大小也在不断增加，对装卸方式及装置的稳定性和装卸能力提出了更高的要求。

目前，在陶瓷圆片的后处理过程中，一般是人工使用抛光布，利用氧化铝研磨液对陶瓷圆片进行打磨，之后使用去离子水对其进行冲洗，最后进行烘干处理。该方式效率较低，工作人员容易划伤、损坏陶瓷圆片导致其报废，同时可能造成陶瓷圆片的二次污染，影响陶瓷圆片的生产质量和合格率。此外，在研磨过程中操作人员的力度、研磨次数和陶瓷圆片的厚度都对研磨效果有着较大的影响，可能需要多次重复上述过程才能使陶瓷圆片达到研磨要求，大大降低了生产效率。

发明内容

本发明实施例提供一种吸擦一体式擦头装置，旨在解决现有处理陶瓷圆片的方式，容易导致陶瓷圆片划伤、损坏、报废、二次污染的问题，影响陶瓷圆片的生产质量、合格率及生产效率。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：提供一种吸擦一体式擦头装置，包括：

吸盘主体，所述吸盘主体上表面中间设有安装圆台，围绕所述安装圆台设有用于容纳研磨液的第一环形凹槽，所述第一环形凹槽的底部设有第一研磨液排出孔，所述安装圆台的中心设有第一通气孔；所述吸盘主体的下表面中间设有安装孔和负压腔；

吸盘芯，安装于所述安装孔处，且隐藏于所述负压腔内；所述吸盘芯具有与所述第一通气孔同轴连通的第二通气孔，所述第二通气孔为盲孔，不贯穿所述吸盘芯；所述吸盘芯外露于所述安装孔的下端设有分气盘，沿所述分气盘周向均匀设有多个第一径向排气孔，所述第一径向排气孔与所述第二通气孔连通；

还包括支架、设置于所述支架下端的驱动电机、与所述驱动电机的空心轴连通的通气管路以及依托所述支架固定的研磨液管路、吹扫气管路、冲洗液管路；其中，所述安装圆台上的第一通气孔连通所述空心轴，所述研磨液管路位于所述第一环形凹槽的正上方，所述吹扫气管路和所述冲洗液管路的下端位于所述吸盘主体的外侧。

在一种可能的实现方式中，所述负压腔的表面为圆弧形曲面。

在一种可能的实现方式中，所述安装孔为螺纹孔，所述吸盘芯的上端外表面设有外螺纹，所述吸盘芯与所述吸盘主体螺纹连接。

在一种可能的实现方式中，所述吸盘芯的下端中心还设有分气圆台，所述分气圆台与所述分气盘之间形成环形通气槽，所述分气圆台上设有与所述第二通气孔连通的第二径向排气孔，且所述第二径向排气孔与所述第一径向排气孔在径向一一对应。