[发明专利]显微术中进行三维成像的方法、装置和显微镜在审
申请号: | 202310087884.8 | 申请日: | 2023-01-28 |
公开(公告)号: | CN116560063A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | T·卡尔克布伦纳;J·西本摩根 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
主分类号: | G02B21/36 | 分类号: | G02B21/36;G02B21/00;G02B21/02;G02B21/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显微 进行 三维 成像 方法 装置 显微镜 | ||
1.一种用于显微术中的三维成像的方法,其中,
借助于校正元件(2KE、3KE)在检测光路中校正来自样本(5)的检测辐射(DS)的像差;并且
以空间分辨的形式捕获校正的检测辐射(DS);
其中,
确定所述校正元件(2KE、3KE)的最佳可能校正设置,其中,通过所述最佳可能校正设置,在所述最佳可能校正设置时出现的像差得以尽量减少;
基于所述最佳可能校正设置,确定缺陷校正设置,其中在所述缺陷校正设置下出现的像差导致所述检测辐射(DS)的不对称点扩散函数(PSFasymm);
确定在所述缺陷校正设置下出现的所述不对称PSF(PSFasymm);
引发确定的所述缺陷校正设置;
二维地捕获所述样本(5)的图像数据;以及
基于所述不对称PSF(PSFasymm)的不对称性的相应被捕获的显现,在各个情况下将所述检测光路的光轴(A2)的方向上的位置(Zc位置)至少分配给选定的图像数据。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,不对称PSF(PSFasymm)的形成是借助于作为光片(6)的照明辐射(BS)的适应性设计来实现的,其中沿着照明光路的光轴(A1)将所述照明辐射(BS)引导到样本空间中并且引导到布置在所述样本空间中的样本(5)上,并且
相对于所述检测光路的焦平面不对称地设置所述光片(6)的位置,
和/或
相对于所述照明光路的光轴(A1)的方向、正交地调制所述光片(6)的显现。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,通过将所述光片(6)和所述样本(5)移动到相对于彼此的不同定位中来扫描所述样本(5)的体积,并且根据相对定位、在各个情况下捕获至少一个图像,其中,根据所述相对定位,所述样本(5)被所述光片(6)照明的区域以所述光片(6)的厚度(D)的一部分彼此重叠。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,捕获所述样本(5)中的至少一个物体(9、9.1、9.2)在照明时段内的位置变化,其中,对体积的扫描以下述任一方式发生:
i)如果待捕获多个物体(9、9.1、9.2)的位置变化,则在每个定位处照明一次;或者
ii)如果捕获和定位的是单个物体(9、9.1、9.2),则根据捕获的位置变化来控制并校正所述光片(6)的定位。
5.一种具有检测光路的用于显微术的装置,包括:
检测物镜(3),用于捕获检测辐射(DS);
空间分辨检测器(19),用于所述检测辐射(DS)的图像点的二维捕获;以及
校正元件(2KE、3KE),用于所述检测物镜(3)与所述检测器(19)之间的所述检测辐射(DS)的像差的校正;以及
控制装置(13),用于所述校正元件(2KE、3KE)的致动和受控设置;
其中,
所述控制装置(13)被配置成基于所述校正元件(2KE、3KE)的最佳可能校正设置来引发缺陷校正设置,从而产生所述检测辐射(DS)的不对称点扩散函数(PSFasymm),其中,通过所述最佳可能校正设置,在所述最佳可能校正设置时出现的像差得以尽量减少。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述校正元件(2KE、3KE)由成对的阿尔瓦雷斯板形成。
7.一种具有根据权利要求5或6所述的装置的显微镜(1)。
8.根据权利要求7所述的显微镜(1),具有正置实施例。
9.根据权利要求7或8所述的显微镜(1),包括具有照明物镜(2)的照明光学单元,所述照明光学单元用于借助于宽场照明光路上的照明辐射(BS)来照明位于样本平面(4)的样本区域中的样本载体(7)上的样本(5)。
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