[发明专利]一种OLED掩膜板的清洗方法及清洗装置

权利要求书

1.一种OLED掩膜板的清洗方法，其特征在于：包括有如下步骤，

S1、将附着有机材料的掩膜板固定在清洗机的固定治具中；

S2、将经过步骤S1处理的掩膜板浸泡在N-甲基呲咯烷酮中；

S3、将掩膜板浸泡在纯水中来去除残留在掩膜板上的N-甲基呲咯烷酮；

S4、对经过步骤S3的掩膜板进行真空干燥处理，去除掩膜板上的水渍；

S5、将掩膜板浸泡在氢氟醚类清洗剂；

S6、对经过步骤S5处理的掩膜板进行真空干燥处理。

2.如权利要求1所述的一种OLED掩膜板的清洗方法，其特征在于：在所述步骤S2中，N-甲基呲咯烷酮的温度控制在40℃～45℃之间。

3.如权利要求1所述的一种OLED掩膜板的清洗方法，其特征在于：在所述步骤S2、S3和S5中，还包括有根据清洗的掩膜板类型及膜厚，选择是否开启超声波振荡，若选择开启超声波振荡，则超声波的频率在60KHZ以上。

4.如权利要求1所述的一种OLED掩膜板的清洗方法，其特征在于：在所述步骤S2中，根据清洗的掩膜板类型及膜厚，浸泡N-甲基呲咯烷酮或纯水的时长设置在30min～60min之间。

5.如权利要求1所述的一种OLED掩膜板的清洗方法，其特征在于：在所述步骤S5中，浸泡氢氟醚类清洗剂的时长设定15min。

6.如权利要求4所述的一种OLED掩膜板的清洗方法，其特征在于：在所述步骤S4和S6中，所述真空干燥的真空压力控制在-100Kpa以上，加热温度控制20℃～40℃之间，干燥时间设定在10min以上。

7.一种采用如权利要求1所述的OLED掩膜板清洗方法的清洗装置，其特征在于：包括有沿清洗制程方向依次设置的第一槽、第二槽、第三槽、第四槽和第五槽；

所述第一槽装有N-甲基呲咯烷酮，用于去除掩膜板上的有机材料；

所述第二槽装有纯水，用于去除残留在掩膜板上的N-甲基呲咯烷酮；

所述第三槽设有第一真空干燥组件，用于去除掩膜板上的水渍；

所述第四槽装有氢氟醚类清洗剂，用于去除残留在掩膜板上的有机材料；

所述第五槽设置有第二真空干燥组件，用于去除残留在掩膜板上的氢氟醚类清洗剂；

所述清洗装置还包括有机械手臂组件，用于将装有掩膜板的固定治具依次输送到第一槽、第二槽、第三槽、第四槽和第五槽。

8.如权利要求7所述的OLED掩膜板清洗方法的清洗装置，其特征在于：所述第一槽、第二槽和第四槽分别设有超声波振荡装置。