[发明专利]一种OLED掩膜板的清洗方法及清洗装置

说明书

本发明提供了一种OLED掩膜板的清洗方法及清洗装置，所述方法包括S1、将附着有机材料的掩膜板固定在清洗机的固定治具中；S2、将经过步骤S1处理的掩膜板浸泡在N‑甲基呲咯烷酮中；S3、将掩膜板浸泡在纯水中来去除残留在掩膜板上的N‑甲基呲咯烷酮；S4、对经过步骤S3的掩膜板进行真空干燥处理，去除掩膜板上的水渍；S5、将掩膜板浸泡在氢氟醚类清洗剂；S6、对经过步骤S5处理的掩膜板进行真空干燥处理。在保证清洗效果的前提下，有效控制了氢氟醚类清洗剂的用量，大幅度节省了清洗成本，减少了对氢氟醚类清洗剂的污染，延长了溶剂的使用寿命。

技术领域

本发明涉及掩膜板清洗技术领域，特别指一种OLED掩膜板的清洗方法及清洗装置。

背景技术

真空热蒸镀是制备有机发光二极管的一种行之有效的方法。精细金属掩膜板(FineMentalMask)是真空热蒸镀最常用的装置。在蒸镀过程中，有机材料在蒸发源中受热蒸发，通过金属掩膜板在玻璃基板的显示区域成膜，随着不断的循环使用金属掩膜板，会有大量的有机材料附着在上面，这些有机材料将影响金属掩膜板的精度或正常使用，因此需要定期清洗金属掩膜板，避免影响OLED产品的质量和制造成本。

现有的掩膜板清洗机主要使用溶解性较强的有机溶剂(如N-甲基呲咯烷酮)及挥发速度快的有机溶剂(如氢氟醚类清洗剂)共两种。清洗机的清洗制程如图1所示，清洗机常设有至少一槽的N-甲基呲咯烷酮及至少两槽的氢氟醚类清洗剂，掩膜板先经过装有N-甲基呲咯烷酮的槽体，再经过两道装有氢氟醚类清洗剂的槽体。

该清洗制程中存在以下问题：氢氟醚类清洗剂具有很强的挥发性，因此需频繁的大量补充清洗槽中的溶剂，而氢氟醚类清洗剂价格昂贵，导致了清洗成本的增加，同时，掩膜板清洗时不可避免会携带部分N-甲基呲咯烷酮至下一制程槽中，导致溶剂污染，缩短使用寿命。

发明内容

本发明要解决的技术问题，在于提供一种OLED掩膜板的清洗方法及清洗装置，减少氢氟醚类清洗剂的用量，能够有效控制清洗成本，同时该清洗方法也可减少对氢氟醚类清洗剂的污染，延长溶剂使用寿命。

本发明是这样实现的：第一方面，本发明提供了一种OLED掩膜板的清洗方法，包括有如下步骤，

S1、将附着有机材料的掩膜板固定在清洗机的固定治具中；

S2、将经过步骤S1处理的掩膜板浸泡在N-甲基呲咯烷酮中；

S3、将掩膜板浸泡在纯水中来去除残留在掩膜板上的N-甲基呲咯烷酮；

S4、对经过步骤S3的掩膜板进行真空干燥处理，去除掩膜板上的水渍；

S5、将掩膜板浸泡在氢氟醚类清洗剂；

S6、对经过步骤S5处理的掩膜板进行真空干燥处理。

进一步的，在所述步骤S2中，N-甲基呲咯烷酮的温度控制在40℃～45℃之间。

进一步的，在所述步骤S2、S3和S5中，还包括有根据清洗的掩膜板类型及膜厚，选择是否开启超声波振荡，若选择开启超声波振荡，则超声波的频率在60KHZ以上。

进一步的，根据清洗的掩膜板类型及膜厚，浸泡N-甲基呲咯烷酮或纯水的时长设置在30min～60min之间。

进一步的，浸泡氢氟醚类清洗剂的时长设定15min。

进一步的，在所述步骤S4和S6中，所述真空干燥的真空压力控制在-100Kpa以上，加热温度控制20℃～40℃之间，干燥时间设定在10min以上。

第二方面，本发明还提供一种采用上述OLED掩膜板清洗方法的清洗装置，包括有沿清洗制程方向依次设置的第一槽、第二槽、第三槽、第四槽和第五槽；

所述第一槽装有N-甲基呲咯烷酮，用于去除掩膜板上的有机材料；