[发明专利]一种高性能大尺寸碳靶材的制备方法在审
申请号: | 202310118418.1 | 申请日: | 2023-02-02 |
公开(公告)号: | CN116254511A | 公开(公告)日: | 2023-06-13 |
发明(设计)人: | 贾倩;何金江;张晓娜;李勇军;丁照崇;许兴;刘秀 | 申请(专利权)人: | 有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料(山东)有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C16/26 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 陈波 |
地址: | 102299 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 性能 尺寸 碳靶材 制备 方法 | ||
1.一种高性能大尺寸碳靶材的制备方法,是以所述碳靶材采用化学气相沉积法进行制备,包括:步骤(1)使碳靶材在底部沿水平方向生长1-5mm;步骤(2)改变气体流型使碳靶材沿垂直方向生长5-10mm;步骤(3)再在顶部使碳靶材沿水平方向生长1-5mm,获得两种生长方向的大尺寸碳靶坯;步骤(4)使用机加工的方式将底部及顶部1-5mm厚沿水平方向生长的碳去除,获得取向单一的高性能大尺寸碳靶材。
2.根据权利要求1所述的制备方法,在步骤(4)获得直径≥400mm,厚度5-10mm,密度≥2.1g/cm3,纯度≥5N的高性能大尺寸碳靶材。
3.一种高性能大尺寸碳靶材的制备方法,包括下述步骤:
(1)将直径≥400mm的石墨基体放置于化学沉积炉内,加热至1800-2000℃;
(2)输入高纯甲烷、氮气和氢气使碳靶材在石墨基体底部沿水平方向沉积1-5mm;
(3)改变气体流型,在步骤(2)获得的碳靶材表面沿垂直方向继续生长5-10mm;
(4)再次改变气体流型,在步骤(3)获得的碳靶材表面沿水平方向继续生长1-5mm;
(5)缓慢降温,获得直径≥400mm的两种生长方向未开裂的大尺寸碳靶材;
(6)将底部及顶部1-5mm厚沿水平方向生长的碳去除,最终获得取向单一的高性能大尺寸碳靶材。
4.根据权利要求3所述的制备方法,在步骤(2)或步骤(4)所述的底部或顶部水平方向生长碳靶材的厚度,取决于需要制备中间垂直方向的碳靶材厚度,当垂直方向的碳靶材厚度为10mm时,底部及顶部水平方向生长碳靶材的厚度为4-5mm;而当垂直方向的碳靶材厚度为5mm时,底部及顶部水平方向生长碳靶材的厚度为1-2mm。
5.根据权利要求3所述的制备方法,在步骤(2)所述的甲烷流量范围为0.5~2.0L/min,氮气流量范围为0.1~15L/min,氢气流量范围为0.1~1L/min。
6.根据权利要求3所述的制备方法,在步骤(6)获得直径≥400mm,厚度5-10mm,密度≥2.1g/cm3,纯度≥5N的高性能大尺寸碳靶材。
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