[发明专利]一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)取电晕处理后的聚酯薄膜，在聚酯薄膜一面涂覆光固化胶，模具辊挤压，紫外光固化，形成棱镜微结构，再在棱镜微结构表面蒸镀反光层；

(2)取含氟硅氧烷单体、季戊四醇四-3-巯基丙酸酯和乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷混合，加入光引发剂搅拌均匀，二氯甲烷搅拌溶解，得到保护液；所述含氟硅氧烷单体、季戊四醇四-3-巯基丙酸酯、乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷的摩尔比为1：1：(3～4)；所述光引发剂用量为乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷的2.5～3wt％；

将步骤(1)处理后的聚酯薄膜置于保护液中浸渍，紫外光下固化50～60min，形成保护层；

含氟硅氧烷单体的制备步骤为：

S1：取甲醇和盐酸，85～90℃油浴下搅拌均匀，再加入γ-巯丙基三甲氧基硅烷，搅拌反应70～75h，反应结束后静置，分离上层清液，通过甲醇中和下层pH，旋蒸浓缩除去甲醇，纯化，得到巯基POSS单体；

S2：取巯基POSS单体、全氟丁基乙烯和光引发剂混合，二氯甲烷搅拌溶解，再在紫外光下搅拌反应40～50min，得到含氟硅氧烷单体；

步骤S1中，所述甲醇、盐酸和γ-巯丙基三甲氧基硅烷的质量比为(15～15.2)：(6.4～6.6)：1；步骤S2中，巯基POSS单体、全氟丁基乙烯的摩尔比为1：(3～3.1)；所述光引发剂用量为巯基POSS单体、全氟丁基乙烯总质量的1.5～2.5wt％；

(3)取步骤(2)处理后的聚酯薄膜，在聚酯薄膜远离反光层的一面涂布压敏胶，压敏胶表面覆离型膜，紫外光下固化，分切，得到成品；

所述压敏胶制备步骤为：取丙烯酸丁酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙烯酸、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸甲酯、巯基POSS单体和TPO，混合搅拌均匀，紫外光下固化10～15min，得到丙烯酸酯预聚体；在丙烯酸酯预聚体中加入TPO和三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，搅拌均匀，得到压敏胶；丙烯酸酯预聚体聚合时，各反应单体含量为：以质量份数计，20～25份丙烯酸丁酯、70～75份丙烯酸-2-乙基己酯、3～5份丙烯酸、2～4份甲基丙烯酸羟乙酯、5～6份甲基丙烯酸甲酯、3～5巯基POSS单体。

2.根据权利要求1所述的一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，紫外光固化时间为5～10s，紫外光的光照强度为350～400mW/cm²。

3.根据权利要求1所述的一种高耐候自清洁反光膜的制备方法，其特征在于：压敏胶制备时，所述三羟甲基丙烷三丙烯酸酯用量为丙烯酸酯预聚体的0.8～1.5wt％，所述TPO用量为丙烯酸酯预聚体的1.6～2.2wt％。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的一种高耐候自清洁反光膜的制备方法制备的反光膜。