[发明专利]一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法有效
申请号: | 202310124147.0 | 申请日: | 2023-02-16 |
公开(公告)号: | CN116285730B | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
发明(设计)人: | 潘晶 | 申请(专利权)人: | 湖北棱镜新材料科技有限公司 |
主分类号: | C09J7/25 | 分类号: | C09J7/25;C08J7/043;C08J7/04;C08J7/06;C08L67/02;C09J7/50;C09J7/38;C09J4/06;C09J4/02 |
代理公司: | 江苏无锡苏汇专利代理事务所(普通合伙) 32593 | 代理人: | 沈彬彬 |
地址: | 437315 湖北省咸宁市赤*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高耐候 清洁 反光 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及反光膜技术领域,具体为一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法。方案先对聚酯薄膜进行两面电晕处理,再在聚酯薄膜一面涂覆光固化胶,利用模具辊挤压后光固化,形成棱镜微结构,反光层采用真空蒸镀加工,接着利用含氟硅氧烷单体、季戊四醇四‑3‑巯基丙酸酯、乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷和光引发剂复配混合形成保护液,再将加工后聚酯薄膜浸渍于保护液中,紫外光固化,从而在反光层表面固化形成保护层;聚酯薄膜背面涂布压敏胶,贴离型膜,得到反光膜产品。本发明制备得到的反光膜不仅具有较优异的自清洁性能,而且反光膜的耐水性得到提高,耐候性能优异,可作为交通标志使用,在多层反光膜复合时依旧能够保持优异的粘接性能。
技术领域
本发明涉及反光膜技术领域,具体为一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法。
背景技术
反光膜,是一种制成薄膜可直接应用的逆反射材料,一般应用为道路交通标志、车身反光标识、反光型广告材料、户外设施指示标牌、设备和管道反光标识等;目前使用的反光膜主要可以分为微棱镜结构和玻璃微珠结构两大类,在反光膜制造时一般会采用PMMA、PET或PVC作为表面保护层,但其耐水解性能较差,整体耐候性无法满足实际需求,因此,采用含氟材料作为表面层逐渐成为我们的主流选择。
另外,当反光膜作为交通标志使用时,有时会将两层反光膜复合,比如高速公路上的交通标志,通常是绿底白字,就是绿色反光膜作为底膜,白色反光膜作为字膜,而采用氟材料作为表面保护层时,容易导致字膜粘不住,实用性较差。
基于以上情况,本申请公开了一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法,在保证表面保护层耐污防水性能的同时,制得的反光膜能够适用于多层复合的情境,以解决现有存在的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高耐候自清洁反光膜及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:
一种高耐候自清洁反光膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)取电晕处理后的聚酯薄膜,在聚酯薄膜一面涂覆光固化胶,模具辊挤压,紫外光固化,形成棱镜微结构,再在棱镜微结构表面蒸镀反光层;
(2)取含氟硅氧烷单体、季戊四醇四-3-巯基丙酸酯和乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷混合,加入光引发剂搅拌均匀,二氯甲烷搅拌溶解,得到保护液。
将步骤(1)处理后的聚酯薄膜置于保护液中浸渍,紫外光下固化50~60min,形成保护层。
较优化的方案,步骤(2)中,所述含氟硅氧烷单体、季戊四醇四-3-巯基丙酸酯、乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷的摩尔比为1:1:(3~4);所述光引发剂用量为乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷的2.5~3wt%。光引发剂为2-羟基-2-甲基苯丙酮。
(3)取步骤(2)处理后的聚酯薄膜,在聚酯薄膜远离反光层的一面涂布压敏胶,压敏胶表面覆离型膜,紫外光下固化,分切,得到成品。压敏胶涂布厚度为20~30μm。
较优化的方案,步骤(3)中,紫外光固化时间为5~10s,紫外光的光照强度为350~400mW/cm2。
较优化的方案,步骤(2)中,含氟硅氧烷单体的制备步骤为:
S1:取甲醇和盐酸,85~90℃油浴下搅拌均匀,再加入γ-巯丙基三甲氧基硅烷,搅拌反应70~75h,反应结束后静置,分离上层清液,通过甲醇中和下层pH,旋蒸浓缩除去甲醇,纯化,得到巯基POSS单体。
S2:取巯基POSS单体、全氟丁基乙烯和光引发剂混合,二氯甲烷搅拌溶解,再在紫外光下搅拌反应40~50min,得到含氟硅氧烷单体。
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